气体处理装置和半导体处理装置的制作方法 专利技术说明

电气元件制品的制造及其应用技术1.本公开涉及半导体技术领域，尤其涉及一种气体处理装置和半导体处理装置。背景技术：2.在半导体的制造工艺中，于处理腔室中对晶圆进行处理。通过外部气源向处理腔室中输入处理气体，并通过排气系统抽真空以使处理腔室维持在所需压力。其中，处理气体、晶圆上的化学试剂等反应会形成副产物，例如，颗粒副产物(即粉尘)。3.相关技术中，排气系统可以包括真空泵和粉尘收集室，真空泵与粉尘收集室连通，处理腔室中的气体通过真空泵的作用被输送至粉尘收集室中，气体中的粉尘在重力作用下沉积在粉尘收集室的底部，剩余的气体在真空泵的作用下排出粉尘收集室。4.然而，上述粉尘容易随气体进入真空泵中，从而对真空泵造成影响。技术实现要素：5.本公开实施例提供一种气体处理装置和半导体处理装置，有利于粉尘和气体之间的分离，提升粉尘的沉积效果，减少随气体进入真空泵的粉尘，从而降低粉尘对真空泵的影响。6.本公开实施例提供如下技术方案：7.本公开实施例的第一方面提供一种气体处理装置，包括：壳体，壳体中具有容纳腔，壳体上设置有进气口和排气口，进气口和排气口连通至壳体的外部；容纳腔中具有连通的分离通道和收集腔，分离通道的一端与进气口连通，分离通道的另一端与收集腔连通，收集腔与排气口连通。8.本公开实施例提供的气体处理装置，气体处理装置可以包括壳体，壳体中具有容纳腔，壳体上设置有进气口和排气口，进气口和排气口连通至壳体的外部。容纳腔中可以具有连通的分离通道和收集腔，分离通道的一端与进气口连通，分离通道的另一端与收集腔连通，收集腔与排气口连通。壳体外部的气体从进气口进入到分离通道、收集腔，并通过排气口排出壳体。收集腔可以用于对气体中的粉尘进行收集，分离通道可以有利于粉尘和气体之间的分离，从而提升粉尘的沉积效果，减少随气体进入真空泵的粉尘，从而降低粉尘对真空泵的影响，延长真空泵的寿命，降低真空泵的故障率，以降低维护成本、缩短维护时间。9.在一种可能的实施方式中，分离通道中设置有气流板组，气流板组包括多个气流板，多个气流板沿分离通道的延伸方向间隔设置；10.多个气流板包括交替设置的第一气流板和第二气流板，第一气流板和分离通道的通道壁相连，第二气流板和分离通道的通道壁之间具有间隙、且与分离通道的通道壁通过连接件相连，相邻的第一气流板与第二气流板之间、以及第二气流板与分离通道的通道壁之间形成有气体流道。11.气体碰到第一气流板和第二气流板而改变方向、损失动能，使得气体中的气流形成扰流，粉尘速度被降低，在自身重力作用、扰流和气流板阻挡作用下，气体中的粉尘较好的实现了下落沉积，提高了粉尘与气体的分离效果，提高了粉尘的收集效率，从而可以减少随气体进入真空泵的粉尘，从而降低粉尘对真空泵的影响。12.在一种可能的实施方式中，气流板背离分离通道的通道壁的一端朝向远离进气口的方向倾斜；13.可以降低气流板对气体的阻挡作用，降低气流板对抽气效率的影响。14.和/或，气流板为环形；15.第一气体流道在分离通道的通道壁的周向的覆盖范围更广，可以更好的对粉尘和气体进行分离。16.和/或，分离通道的通道壁上具有间隔设置的多个分离孔。17.粉尘沉积时可以通过分离孔而排出到分离通道外，使得分离通道内的气体将无法影响分离通道外的粉尘的沉积、收集，减少气体冲击粉尘而造成的扬起现象。18.在一种可能的实施方式中，收集腔包括连通的第一收集腔和第二收集腔，分离通道与第一收集腔连通，第二收集腔连通至排气口。19.在一种可能的实施方式中，收集腔包括相对且间隔设置的第一隔离件和第二隔离件，第一隔离件位于第一收集腔和第二收集腔之间，第二隔离件位于第二收集腔背离第一隔离件的一侧；20.第一隔离件上具有间隔设置的多个第一通孔，第一收集腔和第二收集腔通过第一通孔连通，第二隔离件上具有间隔设置的多个第二通孔，第二收集腔通过第二通孔连通至排气口；21.第一通孔和第二通孔中的一者靠近收集腔的顶部设置，第一通孔和第二通孔中的另一者靠近收集腔的底部设置。22.由于第一隔离件和第二隔离件在不同端开通孔，可以让气流从第一隔离件和第二隔离件的不同端通过，会改变气流方向、形成扰流，延长气体流动路径，粉尘在自身重力作用、扰流和气流板阻挡作用下，可以实现较好的下落沉积，降低粉尘对真空泵的影响。由于第一通孔和第二通孔的数量均较多，单个通孔的面积较小，其对粉尘的通过效率较低、但不会影响气体的通过，从而可以提高对粉尘的隔离效果。23.在一种可能的实施方式中，收集腔包括第三收集腔，第二收集腔通过第三收集腔连通至排气口；24.第三收集腔中设置有多个冷凝管组，沿垂直于气体处理装置的底部至顶部的方向，多个冷凝管组间隔设置，相邻两个冷凝管组连通；25.沿气体处理装置的底部至顶部的方向，各冷凝管组均包括依次首尾连通的多个冷凝管，多个冷凝管包括交替设置第一冷凝管和第二冷凝管，第一冷凝管沿垂直于气体处理装置的底部至顶部的方向延伸，第二冷凝管沿气体处理装置的底部至顶部的方向延伸。26.冷凝管组可以对气体产生冷凝效果，使得气体的粉尘遇冷凝结，从而可以提高第三收集腔对粉尘的捕捉能力，还可以减少气体冲击粉尘而造成的扬起现象，提高粉尘和气体的分离效果，提高粉尘的收集效率，降低粉尘对真空泵的影响。27.在一种可能的实施方式中，第一收集腔和第二收集腔的腔壁的至少部分内表面的表面粗糙度大于气体处理装置的其余部分的表面粗糙度。28.表面粗糙度较大的腔壁对粉尘的吸附效果较好，可以提高第一收集腔和第二收集腔的腔壁对粉尘的捕捉能力，降低粉尘对真空泵的影响。29.在一种可能的实施方式中，容纳腔中设置有辅助通道，分离通道和收集腔通过辅助通道连通；30.沿分离通道至收集腔方向上，辅助通道的开口面积逐渐减小。31.可以减少气体进入第一收集腔中后又反流回分离通道的现象。32.在一种可能的实施方式中，壳体的壳侧壁上设置有维护口，维护口连通容纳腔和壳体的外部，维护口处盖设有保护件；33.保护件与壳体可拆卸相连，和/或，保护件为透明件。34.使得操作人员的拆卸、维护操作更加方便，另外，操作人员可以通过保护件观察容纳腔中的情况。35.本公开实施例的第二方面提供一种半导体处理装置，包括上述第一方面中的气体处理装置。36.本公开实施例提供的半导体处理装置，半导体处理装置可以包括气体处理装置，气体处理装置可以包括壳体，壳体中具有容纳腔，壳体上设置有进气口和排气口，进气口和排气口连通至壳体的外部。容纳腔中可以具有连通的分离通道和收集腔，分离通道的一端与进气口连通，分离通道的另一端与收集腔连通，收集腔与排气口连通。壳体外部的气体从进气口进入到分离通道、收集腔，并通过排气口排出壳体。收集腔可以用于对气体中的粉尘进行收集，分离通道可以有利于粉尘和气体之间的分离，从而提升粉尘的沉积效果，减少随气体进入真空泵的粉尘，从而降低粉尘对真空泵的影响，延长真空泵的寿命，降低真空泵的故障率，以降低维护成本、缩短维护时间。37.本公开的构造以及它的其他发明目的及有益效果将会通过结合附图而对优选实施例的描述而更加明显易懂。附图说明38.为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作以简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。39.图1为本公开实施例提供的气体处理装置的结构示意图；40.图2为本公开实施例提供的气体处理装置的另一结构示意图；41.图3为本公开实施例提供的分离通道的局部结构示意图；42.图4为本公开实施例提供的分离通道的局部剖视图；43.图5为本公开实施例提供的分离通道的另一局部剖视图；44.图6为本公开实施例提供的粉尘穿过分离通道的通道壁的结构示意图；45.图7为本公开实施例提供的气体处理装置的另一结构示意图；46.图8为本公开实施例提供的气体处理装置的另一结构示意图；47.图9为本公开实施例提供的第一隔离件的结构示意图；48.图10为本公开实施例提供的第二隔离件的结构示意图；49.图11为本公开实施例提供的第一收集腔和第二收集腔的结构示意图；50.图12为图1中e-e向的剖视图；51.图13为图1中f-f向的剖视图；52.图14为本公开实施例提供的多个冷凝管组的结构示意图。53.附图标记说明：54.100：气体处理装置；ꢀꢀꢀꢀꢀ110：壳体；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ111：容纳腔；55.112：进气口；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ113：排气口；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ121：分离通道；56.122：分离孔；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ130：气流板组；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ130a：气流板；57.130b：气流孔；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ131：第一气流板；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ132：第二气流板；58.133：连接件；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ141：第一气体流道；ꢀꢀꢀꢀꢀ142：第二气体流道；59.150：收集腔；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ151：第一收集腔；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ152：第二收集腔；60.153：第三收集腔；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ161：第一隔离件；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ1611：第一通孔；61.162：第二隔离件；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ1622：第二通孔；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ163：第三隔离件；62.170：冷凝管组；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ170a：冷凝管；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ171：第一冷凝管；63.172：第二冷凝管；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ173：进液口；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ174：出液口；64.181：辅助通道；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ182：延长通道；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ183：维护口；65.184：保护件；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ185：气体管道；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ186：进气管道；66.187：排气管道；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ188：隔离罩；ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ189：螺钉；67.200：粉尘。具体实施方式68.相关技术中，排气系统可以包括真空泵和粉尘收集室，真空泵与粉尘收集室连通，处理腔室中的气体通过真空泵的作用被输送至粉尘收集室中，气体中的粉尘在重力作用下沉积在粉尘收集室的底部，剩余的气体在真空泵的作用下排出粉尘收集室。69.然而，由于粉尘主要依靠重力作用沉积于粉尘收集室的底部而实现粉尘收集，粉尘的重量较轻、速度较快，粉尘易受到气流影响，使得粉尘的下降沉积效果较差，粉尘的收集效率较低，从而使得粉尘容易随气体进入真空泵中，对真空泵造成影响，缩短真空泵的使用寿命。70.本公开实施例提供一种气体处理装置和半导体处理装置，气体处理装置可以包括壳体，壳体中具有容纳腔，壳体上设置有进气口和排气口，进气口和排气口连通至壳体的外部。容纳腔中可以具有连通的分离通道和收集腔，分离通道的一端与进气口连通，分离通道的另一端与收集腔连通，收集腔与排气口连通。壳体外部的气体从进气口进入到分离通道、收集腔，并通过排气口排出壳体。收集腔可以用于对气体中的粉尘进行收集，分离通道可以有利于粉尘和气体之间的分离，从而提升粉尘的沉积效果，减少随气体进入真空泵的粉尘，从而降低粉尘对真空泵的影响，延长真空泵的寿命，降低真空泵的故障率，以降低维护成本、缩短维护时间。71.为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。72.以下将结合图1-图14对本公开实施例提供的半导体处理装置进行说明。73.本公开实施例提供一种半导体处理装置，该半导体处理装置可以用于对晶圆或其他半导体结构进行处理。本公开实施例以半导体处理装置对晶圆进行处理为例进行说明。该处理可以包括但不限于为掺杂、沉积、清洗以及刻蚀等。74.半导体处理装置可以包括相互连通的工艺处理室和气体处理装置100。可以在工艺处理室中对晶圆进行处理，以避免外部环境对晶圆的影响。在晶圆的处理过程中，工艺处理室中的试剂蒸发、气体发生化学反应，从而产生多种副产物。该副产物中可以包括颗粒状的副产物(即粉尘200)。气体处理装置100可以用于收集工艺处理室排出的气体中的粉尘200。75.示例性的，半导体处理装置可以包括真空泵，真空泵可以用于与气体处理装置100连通，通过真空泵作用，工艺处理室的气体可以被传输至气体处理装置100。真空泵还可以用于维持工艺处理室中的气压，以保证工艺处理室中的工艺环境可以满足工艺需求。76.以下对本公开实施例提供的气体处理装置100进行说明。77.参见图1和图2，气体处理装置100可以包括壳体110，壳体110中具有容纳腔111，壳体110可以对位于容纳腔111中的其他结构件形成保护，另外，壳体110还可以为其他结构件提供安装、支撑基础。78.示例性的，壳体110上可以设置有进气口112和排气口113，进气口112和排气口113可以连通至壳体110的外部。其中，进气口112可以与工艺处理室连通，工艺处理室排出的气体可以通过进气口112进入到容纳腔111中。排气口113可以与真空泵连通，工艺处理室中的气体在真空泵的作用下，通过进气口112进入容纳腔111中，并继续在真空泵的作用下，通过排气口113从容纳腔111中排出。例如，进气口112处可以设置有进气管道186，进气口112可以通过进气管道186与工艺处理室连通，排气口113处可以设置有排气管道187，排气口113可以通过排气管道187与真空泵连通。79.一些实施例中，参见图1和图2，容纳腔111中可以具有连通的分离通道121和收集腔150。分离通道121有利于粉尘200和气体之间的分离，以减少气体对粉尘200的冲击造成的扬起现象，提升粉尘200的沉积效果，从而减少随气体进入真空泵的粉尘200，降低粉尘200对真空泵的影响，延长真空泵的寿命，减少对真空泵的检修频率，降低维护成本和维护时间。收集腔150可以对粉尘200进行收集。80.分离通道121的一端可以与进气口112连通，气体可以通过进气口112进入到分离通道121中。分离通道121的另一端可以与收集腔150连通，收集腔150与排气口113连通。气体经过分离通道121后可以进入到收集腔150中，并通过排气口113排出收集腔150。81.以下对本公开实施例提供的分离通道121进行说明。82.沿垂直于分离通道121的延伸方向的截面，分离通道121的通道壁的截面形状可以圆环状、椭圆环状或者多边环状等。83.参见图3和图4，分离通道121中可以设置有气流板组130，气流板组130可以包括多个气流板130a，多个气流板130a沿分离通道121的延伸方向间隔设置。多个气流板130a可以包括交替设置的第一气流板131和第二气流板132，第一气流板131可以和分离通道121的通道壁相连，气体无法通过第一气流板131与分离通道121的通道壁的连接处。第二气流板132可以和分离通道121的通道壁之间具有间隙，气流可以通过该间隙。第二气流板132与分离通道121的通道壁可以通过连接件133相连，连接件133的体积较小，对气体的阻挡较小或者可以忽略不计。连接件133的数量可以为至少一个，当连接件133的数量为多个时，多个连接件133可以间隔设置于第二气流板132和分离通道121的通道壁之间。其中，相邻的第一气流板131与第二气流板132之间、以及第二气流板132与分离通道121的通道壁之间形成有气体流道(即第一气体流道141)。图4的q1和q2示出了气体在第一气体流道141和第二气体流道142中的流动示意图。84.一些示例中，参见图5，气流板组130可以设置于分离通道121的通道壁的周向的一部分。例如，气流板组130可以设置在分离通道121的通道底壁和/或通道侧壁。以气流板组130设置在分离通道121的通道底壁为例，第一气流板131的底部可以与分离通道121的通道底壁相连，第一气流板131的顶部可以与分离通道121的通道顶壁间隔设置。相邻的第一气流板131与第二气流板132之间、以及第二气流板132与分离通道121的通道底壁之间形成有第一气体流道141。气流板组130与分离通道121的通道顶壁之间形成有第二气体流道142。另一些示例中，参见图3和图4，气流板组130可以沿分离通道121的通道壁的周向设置一圈。第一气流板131与第二气流板132均可以为环形，第一气流板131与第二气流板132上均可以具有气流孔130b。相邻的第一气流板131与第二气流板132之间、以及第二气流板132与分离通道121的通道壁之间形成有第一气体流道141。第一气流板131的气流孔130b和第二气流板132的气流孔130b相互连通并形成第二气体流道142。如此设置，第一气体流道141在分离通道121的通道壁的周向的覆盖范围更广，可以更好的对粉尘200和气体进行分离。85.气体进入分离通道121后：部分气体可以进入第一气体流道141(即第一部分气体)，另一部分气体可以进入第二气体流道142(即第二部分气体)。例如，第一部分气体占气体的比例可以较少，第二部分气体占气体的比例可以较多，可以减小第一部分气体对抽气效率的影响。第一部分气体在经过相邻两个第一气流板131之间的第一气体流道141之后，会重新回到第二气体流道142并与第二部分气体汇合，然后，继续被分流成第一部分气体和第二部分气体，并分别进入第一气体流道141和第二气体流道142中，气体在分离通道121中被反复分流和汇合，最终穿过分离通道121(图6中的箭头a示出了气体穿过分离通道121的方向)。86.其中，气体分流形成第一部分气体时，第一部分气体碰到第一气流板131和第二气流板132而改变方向，使得第一部分气体中的气流形成扰流，另外，第一部分气体碰到第一气流板131和第二气流板132还会损失动能，粉尘速度被降低。在自身重力作用、扰流和气流板130a阻挡作用下，第一部分气体中的粉尘200较好的实现了下落沉积，提高了粉尘200与气体的分离效果，提高了粉尘200的收集效率，从而可以减少随气体进入真空泵的粉尘200，从而降低粉尘200对真空泵的影响，延长真空泵的使用寿命，降低真空泵的故障率，以降低维护成本、缩短维护时间。由于第一气体流道141的路径较长，可以提高第一气体流道141对粉尘200和气体的分离效果，从而进一步提高粉尘200的收集效率，降低粉尘200对真空泵的影响。其次，由于第一部分气体在第一气体流道141中的速度被降低，第一部分气体对粉尘200的冲击能力降低，从而可以减少气体冲击导致的飞扬现象，使得粉尘200和气体较好的分离，从而进一步提高粉尘200的收集效率，降低粉尘200对真空泵的影响。87.可以理解的是，粉尘200的速度越低，越容易聚集形成更大粒径的粉尘200，从而增加粉尘200的重量，有利于粉尘200在重力作用下沉积下落而与气体分离。第一气体流道141的路径较长，可以增加粉尘200通过第一气体流道141时的碰撞概率，也有利于粉尘200碰撞接触形成更大粒径的粉尘200，从而有利于粉尘200在重力作用下沉积下落而与气体分离。粉尘200的重量变大时，可以减少气体冲击导致的飞扬现象，从而进一步提高粉尘200的收集效率，降低粉尘200对真空泵的影响。88.示例性的，参见图5和图6，气流板130a背离分离通道121的通道壁的一端朝向远离进气口112的方向倾斜。相当于，气流板130a背离分离通道121的通道壁的一端朝向分离通道121的通道进气口至分离通道121的通道出气口的方向倾斜，从而可以降低气流板130a对气体的阻挡作用，降低气流板130a对抽气效率的影响。第一部分气体和第二部分气体在汇合时，两部分气体均是顺着分离通道121的通道进气口至分离通道121的通道出气口的方向，从而可以避免两部分气体对冲导致的涡流和能量损失，使得两部分气体汇合后的速度较高。另外，还可以使得气体流动时整体是呈收敛状态的，使得气体受到的阻力较小，收敛状态下的气流流速将增加，从而使得气体经过分离通道121后速度增加，可以避免分离通道121在对气体和粉尘200分离时改变气体流动方向而影响抽气效率。其次，还可以使得第一部分气体更易在第一气体流道141的拐角处沉积。89.示例性的，参见图3和图6，分离通道121的通道壁上可以具有间隔设置的多个分离孔122，至少部分数量的分离孔122可以与第一气体流道141连通。由于粉尘200在第一气体流道141中与气体可以实现有效分离，粉尘200的沉积效果较好，粉尘200沉积时可以通过分离孔122而排出到分离通道121外，使得分离通道121内的气体将无法影响分离通道121外的粉尘200的沉积、收集，减少气体冲击粉尘200而造成的扬起现象。另外，可以让粉尘200有效的排出第一气体流道141，实现气体和粉尘200的初步分离，避免粉尘200在第一气体流道141堆积而影响第一气体流道141的通气效果。90.一些实施例中，参见图7，分离通道121的外部可以罩设有隔离罩188，隔离罩188可以避免从分离通道121排出的粉尘200脏污收纳腔111中的其他结构件，可以降低清理粉尘200的难度和减少清理时间。91.一些示例中，分离通道121的通道出气口的一端与收集腔150间隔设置、且不相连接。在设置有隔离罩188的实施方式中，隔离罩188还可以罩设于收集腔150的腔体进气口，当气体从分离通道121出来后，首先进入隔离罩188与分离通道121之间的空间，再通过收集腔150的腔体进气口进入到收集腔150中。另一些示例中，参见图8，分离通道121的通道出气口的一端与收集腔150的腔壁之间相连，使得分离通道121和收集腔150之间的气体路径较为密闭，可以减少从分离通道121中流出的气体中的粉尘200对容纳腔111中其他结构件的脏污，降低粉尘200的清理难度和减少清理时间，另外，还可以提高从分离通道121进入收集腔150的气体的速度。92.以下对本公开实施例提供的收集腔150进行说明。93.参见图2和图9，收集腔150可以包括连通的第一收集腔151和第二收集腔152，分离通道121可以与第一收集腔151连通，第二收集腔152可以连通至排气口113。第一收集腔151和第二收集腔152之间可以设置有第一隔离件161，第一隔离件161上具有多个间隔设置的第一通孔1611，第一收集腔151和第二收集腔152可以通过第一通孔1611连通。如此设置，粉尘200碰到第一隔离件161时损失动能，有利于粉尘200在重力作用下沉积。气体在第一收集腔151中可以通过第一通孔1611流入到第二收集腔152中，而第一隔离件161对粉尘200具有一定阻隔效果，从而可以提高粉尘200在第一收集腔151中的沉积效果。94.参见图2和图10，第二收集腔152背离第一隔离件161的一侧可以设置有第二隔离件162，第一隔离件161和第二隔离件162可以相对且间隔的设置于第二收集腔152的相对两侧。第二隔离件162上可以具有间隔设置的多个第二通孔1622，第二收集腔152通过第二通孔1622连通至排气口113。如此设置，粉尘200碰到第二隔离件162时损失动能，有利于粉尘200在重力作用下沉积。气体在第二收集腔152中可以通过第二通孔1622流出，而第二隔离件162对粉尘200具有一定阻隔效果，可以提高粉尘200在第二收集腔152中的沉积效果。95.可以理解的是，由于第一通孔1611和第二通孔1622的数量均较多，单个通孔的面积较小，其对粉尘200的通过效率较低、但不会影响气体的通过，从而可以提高对粉尘200的隔离效果。96.示例性的，第一通孔1611和第二通孔1622中的一者可以靠近收集腔150的顶部设置，第一通孔1611和第二通孔1622中的另一者可以靠近收集腔150的底部设置。例如，参见图9和图10，第一通孔1611可以设置在第一隔离件161的顶部，第二通孔1622可以设置在第二隔离件162的底部。或者，第一通孔1611可以设置在第一隔离件161的底部，第二通孔1622可以设置在第二隔离件162的顶部。参见图8和图11，在气体依次经过第一通孔1611和第二通孔1622时，由于第一隔离件161和第二隔离件162在不同端开通孔，可以让气流从第一隔离件161和第二隔离件162的不同端通过，会改变气流方向、形成扰流，延长气体流动路径，粉尘200在自身重力作用、扰流和气流板130a阻挡作用下，可以实现较好的下落沉积，有利于提高粉尘200在第一收集腔151和第二收集腔152中的沉积效果，提高除尘效果，还可以降低气流冲击造成的扬尘，降低粉尘200对真空泵的影响。其中，图8和图11中的箭头a示出了气体在气体处理装置100的流动方向。97.示例性的，第一收集腔151和第二收集腔152的腔壁的部分或者全部内表面的表面粗糙度可以大于气体处理装置100的其余部分的表面粗糙度，表面粗糙度较大的腔壁对粉尘200的吸附效果较好，可以提高第一收集腔151和第二收集腔152的腔壁对粉尘200的捕捉能力，提高粉尘200和气体的分离效果，提高粉尘200的收集效率，还可以减少气体冲击粉尘200而造成的扬起现象，降低粉尘200对真空泵的影响。另外，可以使得粉尘200较多的沉积于第一收集腔151和第二收集腔152中，减少气体处理装置100其余部分的粉尘200的沉积量。由于第一收集腔151和第二收集腔152的内部结构较为简单，清理较为容易，从而可以降低粉尘200清理的难度，节约清理时间。例如，可以采用喷砂处理第一收集腔151和第二收集腔152的腔壁的至少部分内表面，以增加该至少部分的腔壁的内表面的表面粗糙度。98.参见图12和图13，收集腔150可以包括第三收集腔153，第二收集腔152通过第三收集腔153连通至排气口113。第二隔离件162位于第二收集腔152和第三收集腔153之间，第二收集腔152和第三收集腔153之间可以通过第二通孔1622连通。99.示例性的，第三收集腔153中可以设置有冷凝管组170，冷凝管组170中可以设置有流动的冷却液。冷凝管组170可以对气体产生冷凝效果，使得气体中副产物(包括粉尘200等)遇冷凝结，从而可以提高第三收集腔153对粉尘200的捕捉能力，还可以减少气体冲击粉尘200而造成的扬起现象，提高粉尘200和气体的分离效果，提高粉尘200的收集效率，降低粉尘200对真空泵的影响。100.示例性的，参见图13和图14冷凝管组170可以为多个，冷凝管组170的数量较多，其整体的冷凝效果较好，可以更好的提高对粉尘200的捕捉能力，提高粉尘200的收集效率，降低粉尘200对真空泵的影响。多个冷凝管组170可以沿第一方向x间隔设置，各冷凝管组170均可以包括沿第二方向y依次首尾连通的多个冷凝管170a。第一方向x与第二方向y不同。例如，第二方向y可以为气体处理装置100的底部至顶部的方向，第一方向x可以为垂直于气体处理装置100的底部至顶部的方向。相邻两个冷凝管组170连通。在相邻三个冷凝管组170中，位于中间的冷凝管组170的底部可以与位于两侧的冷凝管组170中的一者的底部连通，位于中间的冷凝管组170的顶部可以与位于两侧的冷凝管组170中的另一者的顶部连通，使得多个冷凝管组170顶部和底部依次首尾连通，多个冷凝管组170形成的冷却路径较长，可以提高多个冷凝管组170的冷却效果，可以提高第三收集腔153对粉尘200的捕捉能力，提高粉尘200和气体的分离效果，提高粉尘200的收集效率，降低粉尘200对真空泵的影响。101.其中，参见图12，多个冷凝管组170形成的冷凝管路的进液口173和出液口174可以从壳体110中伸出，以便于与外部的冷却液源相连。例如，进液口173和出液口174可以从壳体110的侧部伸出。102.继续参见图13和图14，沿气体处理装置100的底部至顶部的方向(第二方向y)，各冷凝管组170均可以包括依次首尾连通的多个冷凝管170a，多个冷凝管170a可以包括交替设置第一冷凝管171和第二冷凝管172，第一冷凝管171和第二冷凝管172的延伸方向不同，使得每一冷凝管组170的冷却路径较长，从而可以提高单个冷凝管组170的冷却效果，可以提高第三收集腔153对粉尘200的捕捉能力，提高粉尘200和气体的分离效果，提高粉尘200的收集效率，降低粉尘200对真空泵的影响。例如，第一冷凝管171可以沿第三方向z延伸，第三方向z不同于第一方向x和第二方向y。例如，第三方向z可以为垂直于气体处理装置100的底部至顶部的方向，第二冷凝管172可以沿第二方向y延伸。103.一些实施例中，参见图8，第三收集腔153可以通过气体管道185与壳体110的排气口113连通，气体管道185的管道进气口可以位于多个冷凝管组170的顶部，从而有利于第三收集腔153的气体的排出。在第二通孔1622设置于第二隔离件162的底部的实施方式中，还可以延长气体在第三收集腔153中的流动路径，对气体的冷凝效果较好，可以提高第三收集腔153对粉尘200的捕捉能力，提高粉尘200和气体的分离效果，提高粉尘200的收集效率，降低粉尘200对真空泵的影响。沿气体管道185的延伸方向，气体管道185的开口面积可以处处相等，也可以至少部分不同。例如，气体管道185靠近第三收集腔153的一端的开口面积可以大于其余部分的开口面积，使得气体管道185靠近第三收集腔153一端的开口面积较大，从而有利于第三收集腔153中的气体的排出，气体管道185的其余部分的开口面积较小，可以减少气体管道185占用的体积，有利于减小气体处理装置100的体积。104.以下对本公开实施例提供的辅助通道181进行说明。105.参见图8，容纳腔111中可以设置有辅助通道181，分离通道121和收集腔150可以通过辅助通道181连通。例如，辅助通道181可以至少部分伸入到第一收集腔151中。在第一通孔1611设置于第一隔离件161的顶部的实施方式中，辅助通道181可以使得气体进入第一收集腔151时，气体向第一收集腔151的底部的方向靠近，使得气体从第一收集腔151中通过第一通孔1611时，会改变气流方向、形成扰流，延长气体流动路径，粉尘200在自身重力作用、扰流和第一隔离件161阻挡作用下，可以实现较好的下落沉积，有利于提高粉尘200在第一收集腔151中的沉积效果，提高除尘效果，降低粉尘200对真空泵的影响。106.示例性的，沿分离通道121至收集腔150方向上，辅助通道181的开口面积可以逐渐减小，可以减少气体进入第一收集腔151中后又反流回分离通道121的现象。参见图1，在分离通道121与收集腔150不相连接的实施方式中，辅助通道181可以间隔设置于分离通道121的底部，且辅助通道181的通道进气口与分离通道121相对设置，从而使得粉尘200在重力作用下可以直接落入到辅助通道181的通道进气口中，可以方便粉尘200顺着分离通道121的倾斜的通道壁进入收集腔150中。107.示例性的，参见图1，辅助通道181远离分离通道121的一端可以设置有延长通道182，延长通道182可以增加辅助通道181的长度，使得气流进入第一收集腔151时，更靠近第一收集腔151的底部，使得气体从第一收集腔151中通过第一通孔1611时，会改变气流方向、形成扰流，延长气体流动路径，粉尘200在自身重力作用、扰流和第一隔离件161阻挡作用下，可以实现较好的下落沉积，有利于提高粉尘200在第一收集腔151中的沉积效果，提高除尘效果，降低粉尘200对真空泵的影响。例如，延长通道182的开口面积可以小于辅助通道181的开口面积，从而可以减少延长通道182对第一收集腔151的体积的占用。108.以下对本公开实施例提供的维护口183进行说明。109.一些实施例中，参见图12和图13，壳体110的壳侧壁上可以设置有维护口183，维护口183连通容纳腔111和壳体110的外部，可以便于操作人员通过维护口183对容纳腔111内的结构件进行维护和清理等操作。维护口183处可以盖设有保护件184，保护件184可以使得壳体110形成较为密闭的环境，避免气体从容纳腔111中溢出至外部环境。110.示例性的，保护件184与壳体110可拆卸相连，例如，可以通过螺纹连接(如图1中的螺钉189)、插接、卡接等方式可拆相连，从而使得操作人员的拆卸、维护操作更加方便，可以简化维护工序、节约维护时间、降低维护成本，更加符合人机工程学。例如，可以将保护件184的面积设置的较大，从而可以增加作业空间。本公开实施例提供的气体处理装置100在维护时，单人即可作业，维护时间可以缩短至2小时。111.示例性，保护件184可以为透明件，操作人员可以通过保护件184观察容纳腔111中的情况，例如，可以观察粉尘200的收集情况，从而及时对粉尘200进行清理。112.可以理解的是，第一收集腔151、第二收集腔152、第三收集腔153中的至少一者的部分腔壁可以由壳体110和/或保护件184形成，从而可以简化气体处理装置100的结构，降低成本。例如，第一收集腔151、第二收集腔152、第三收集腔153的腔顶壁可以由第三隔离件163形成。部分第三隔离件163、第一隔离件161、部分保护件184和部分壳体110共同围设形成第一收集腔151，部分第三隔离件163、第一隔离件161、第二隔离件162、部分保护件184和部分壳体110共同围设形成第二收集腔152，部分第三隔离件163、第二隔离件162、部分保护件184和部分壳体110共同围设形成第三收集腔153。或者，第一收集腔151、第二收集腔152、第三收集腔153中的至少一者的腔壁可以由非壳体110和保护件184的其他结构件形成。113.这里需要说明的是，本公开实施例涉及的数值和数值范围为近似值，受制造工艺的影响，可能会存在一定范围的误差，这部分误差本领域技术人员可以认为忽略不计。114.最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本公开的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本公开进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本公开各实施例技术方案的范围。









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