涂胶设备的控制方法及涂胶设备、存储介质与流程

计算;推算;计数设备的制造及其应用技术1.本发明涉及涂胶缺陷视觉检测技术领域，尤其涉及一种涂胶设备的控制方法及涂胶设备、存储介质。背景技术：2.在智能制造涂胶缺陷视觉检测领域，为不影响生产，一般会采用在线检测的方式来对涂胶缺陷进行检测。在线检测的方式为：将图像采集相机安装在涂胶枪附近，使图像采集相机跟随涂胶枪同步移动，来采集胶条的图像，并对图像进行图像识别和涂胶缺陷分析。3.在涂胶的过程中，涂胶枪的移动方向是连续的、随机的，并且胶水位于涂胶枪移动方向的反方向。如果使用单个固定的图像采集相机进行拍摄，会存在胶条被涂胶枪遮挡的情况，进而会影响在线检测的检测结果。4.在相关的检测技术中，有一种单个固定图像采集相机的检测方法，该方法是将图像采集相机固定在能够覆盖涂胶工作路径的范围内，来对胶条进行图像采集。但是，该方法只适用于涂胶路径方向变化较小的检测场景，因此，该方法的普适性较低。技术实现要素：5.本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。6.为此，本发明的一个目的在于提出一种涂胶设备的控制方法，以实现根据涂胶枪的路径方向，自动调整涂胶缺陷检测机构的方位，使涂胶缺陷检测机构的相机视场能够始终覆盖胶条路径范围，提高涂胶设备的普适性。7.本发明的第二个目的在于提出一种涂胶设备。8.本发明的第三个目的在于提出一种计算机可读存储介质。9.为达上述目的，本发明第一方面实施例提出了一种涂胶设备的控制方法，所述涂胶设备包括涂胶枪和涂胶缺陷检测机构，所述涂胶缺陷检测机构安装于所述涂胶枪上，所述方法包括：获取所述涂胶枪的全局位姿，并根据所述涂胶枪的全局位姿确定所述涂胶枪的移动方向；根据所述涂胶枪的移动方向，确定所述涂胶枪涂出的胶条相对于所述涂胶枪的方向信息；根据所述方向信息确定所述涂胶缺陷检测机构的旋转角度；根据所述旋转角度控制所述涂胶缺陷检测机构进行旋转，以使所述涂胶缺陷检测机构的相机视场覆盖胶条的路径范围。10.本发明实施例的涂胶设备的控制方法，通过获取涂胶枪的全局位姿，并根据全局位姿确定涂胶枪的移动方向；再根据涂胶枪的移动方向，确定胶条相对于涂胶枪的方向信息；获得胶条相对于涂胶枪的方向信息后，再根据方向信息来确定涂胶缺陷检测机构需要的旋转角度，并根据旋转角度控制涂胶缺陷检测机构进行旋转，从而实现了根据涂胶枪的路径方向，自动调整涂胶缺陷检测机构的方位，使涂胶缺陷检测机构的相机视场能够始终覆盖胶条路径范围，提高涂胶设备的普适性。11.为达上述目的，本发明第二方面实施例提出了一种涂胶设备，该涂胶设备包括：存储器和处理器，所述存储器上存储有计算机程序，所述处理器执行所述程序时实现如以上所述的涂胶设备的控制方法。12.为达上述目的，本发明第三方面实施例提出了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述程序被处理器执行时实现如根据本发明的第一方面的涂胶设备的控制方法。13.本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。附图说明14.图1是本发明实施例中涂胶设备的结构示意图；15.图2是本发明实施例的一个具体坐标系的分布示意图；16.图3是本发明第一个实施例的涂胶设备的控制方法的流程图；17.图4是本发明第二个实施例的涂胶设备的控制方法的流程图；18.图5是本发明第三个实施例的涂胶设备的控制方法的流程图；19.图6是本发明第四个实施例的涂胶设备的控制方法的流程图；20.图7是本发明一个实施例的涂胶设备的结构框图。具体实施方式21.下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。22.下面参考附图描述本发明实施例的涂胶设备的控制方法及涂胶设备、存储介质。23.首先，对本发明实施例的涂胶设备的结构进行具体介绍。24.图1是本发明实施例中涂胶设备的结构示意图。如图1所示，该涂胶设备包括涂胶枪110、涂胶缺陷检测机构120以及法兰。需要说明的是，法兰不在图中示出。25.其中，涂胶枪110为长管形，涂胶枪110的一端具有圆锥形缩口，涂胶枪110的另一端与法兰固定连接，涂胶枪110通过法兰安装于涂胶设备的末端。胶水从该圆锥形缩口流出，来实现涂胶过程。涂胶缺陷检测机构120套接于涂胶枪110的管身中部位置，涂胶缺陷检测机构120可以为：能够围绕涂胶枪110进行旋转，并能够采集胶条图像的装置。26.在一些实施方式中，涂胶缺陷检测机构120包括旋转动力组件121、支架122以及相机123。旋转动力组件121为圆环形，旋转动力组件121套接于涂胶枪110的管身。支架122为两个相连的固定环，其中一个固定环套接在旋转动力组件121上，另一个固定环套接在相机123上，由此，来将相机123安装于旋转动力组件121上。旋转动力组件121用于带动相机123围绕着涂胶枪110旋转，相机123则用来采集胶条图像。27.在本实施例中，涂胶设备还包括一个控制芯片，该控制芯片上运行有涂胶程序，且由该控制芯片控制涂胶缺陷检测机构运行。28.此外，在本发明实施例中，需要预先建立涂胶枪的局部坐标系a_gun、法兰的全局坐标系t_end、涂胶缺陷检测机构的局部坐标系a_cam以及涂胶设备的基坐标系。29.图2是本发明实施例的一个具体坐标系的分布示意图。30.如图2所示，涂胶枪的局部坐标系a_gun是相对于法兰描述的坐标系。涂胶枪的局部坐标系a_gun的原点设置于涂胶枪的轴线上，z轴的方向可以沿涂胶枪的轴线方向设置，x轴和y轴的方向可以根据需求灵活配置。具体地，可以先为x轴和y轴设置一个初始方向，在涂胶枪运动过程中，涂胶枪局部坐标系a_gun的原点以及x轴、y轴的方向会随着涂胶枪的平移或旋转而发生变化。31.涂胶缺陷检测机构的局部坐标系a_cam是相对于涂胶枪描述的坐标系。涂胶缺陷检测机构的局部坐标系a_cam的原点设置于涂胶枪的轴线上，且与涂胶缺陷检测机构平齐。涂胶缺陷检测机构的局部坐标系a_cam的z轴可与涂胶枪的局部坐标系a_gun的z轴方向相同，x轴可以设置为沿z轴指向相机光轴轴线。具体地，也可以先为涂胶缺陷检测机构的局部坐标系a_cam的x轴和y轴设置一个初始方向，在涂胶缺陷检测机构工作时，涂胶缺陷检测机构局部坐标系a_cam的原点以及x轴、y轴的方向会随着涂胶缺陷检测机构的平移或旋转而发生变化。32.可以将涂胶枪的局部坐标系a_gun的x轴、y轴、z轴的初始方向，与涂胶缺陷检测机构的局部坐标系a_cam的x轴、y轴、z轴的初始方向设置为相同方向。33.法兰的全局坐标系t_end是以法兰为中心建立的，法兰的全局坐标系t_end的z轴方向可以设置为与涂胶枪的局部坐标系a_gun的z轴方向相反的方向，x轴和y轴的初始方向可以设置为与涂胶枪的局部坐标系a_gun的x轴和y轴的初始方向相同的方向。法兰的全局坐标系t_end会随着法兰的移动而发生变化。34.涂胶设备的基坐标系的原点可以设置为涂胶设备基座的中心点，同样地，涂胶设备的基坐标系的z轴方向可以设置为与涂胶枪的局部坐标系a_gun的z轴方向相同的方向，x轴和y轴的初始方向可以设置为与涂胶枪的局部坐标系a_gun的x轴和y轴的初始方向相同的方向。值得一提的是，本发明实施例中的所有坐标系均可以由基坐标系经过旋转和平移得到。需要说明的是，涂胶设备的基坐标系不在图中示出。35.在本实施例中，可以先将上述坐标系的基本参数(即各轴方向参数、原点参数等)输入至涂胶设备的控制芯片中，涂胶设备的控制芯片会自动建立上述坐标系。并且涂胶设备具有位姿查询功能，即能够查询到各部件在其坐标系下的位姿。这里需要说明的是，位姿是指位置和姿态。示例地，在涂胶设备工作时，可以直接在涂胶设备的控制芯片中实时获取法兰在法兰全局坐标系t_end下的位姿。36.参考上述涂胶设备的结构和上述坐标系，下面对本发明的涂胶设备的控制方法进行具体介绍。37.图3是本发明第一个实施例的涂胶设备的控制方法的流程图。如图3所示，该方法包括以下步骤：38.步骤s310：获取涂胶枪的全局位姿，并根据涂胶枪的全局位姿确定涂胶枪的移动方向。39.需要说明的是，涂胶枪的全局位姿是指：在涂胶枪的全局坐标系下，涂胶枪的位置和姿态。40.在涂胶设备工作时，通过获取当前涂胶枪在其全局坐标系下的全局位姿，可以确定涂胶枪在全局坐标系下当前的移动方向。41.图4是本发明第二个实施例的涂胶设备的控制方法的流程图。如图4所示，在一些实施方式中，步骤s310中获取涂胶枪的全局位姿，包括以下步骤：42.步骤s410：在预先构建的法兰全局坐标系中，每隔预设周期获取法兰的全局位姿。43.步骤s420：根据法兰的全局位姿和涂胶枪相对法兰的局部坐标系，确定涂胶枪的全局位姿。44.需要说明的是，涂胶设备的控制芯片每间隔预设周期就会自动读取一次法兰的全局位姿。其中，预设周期可以根据涂胶枪的运动速度、涂胶缺陷检测机构的采样频率等，由技术人员自行设定。示例地，可以设置预设周期为1s、2s等，涂胶枪的运动速度越快，或所需的采样频率越高，可以设置获取法兰全局位姿的预设周期越短。45.在本实施例中，涂胶设备还设置有用于存储数据的数据库，控制芯片与数据库连接。在控制芯片每次读取法兰的全局位姿后，都会将法兰的全局位姿数据输出至数据库，数据库将法兰的全局位姿数据进行存储，以方便后续对数据的使用。在一些实施方式中，还可以采用缓存的方式，将法兰的全局位姿数据进行存储。46.在一些实施方式中，通过下式确定涂胶枪的全局位姿：47.t_guni＝t_endi*a_gun48.其中，t_guni为第i个周期的涂胶枪的全局位姿，t_endi为第i个周期的法兰的全局位姿，a_gun为涂胶枪相对法兰的的局部坐标系。49.首先，需要说明的是，本发明实施例中的坐标系和全局位姿的表示方式均可以为4×4的向量矩阵。下面以法兰的全局坐标系为例，对坐标系或全局位姿的数据形式进行介绍。50.法兰的全局坐标系的数据形式可以为：[0051][0052]其中，r_end为基坐标系旋转为涂胶枪全局坐标系的旋转分量，p_end为基坐标系平移为涂胶枪全局坐标系的平移分量。具体地，r_end为3×3的向量矩阵，其数据形式可以为：p_end为3×1的向量矩阵，其数据形式可以为：[0053]由于涂胶枪的局部坐标是相对于法兰进行建立的，并且涂胶枪的局部坐标系会随着涂胶枪的运动而发生变化，即涂胶枪局部坐标系的原点会随着涂胶枪运动而平移。因此，涂胶枪的局部坐标系在法兰的全局坐标系下的位置，能够代表涂胶枪在法兰的全局坐标系下的位置。[0054]由此，获取到法兰的全局位姿后，通过将法兰的全局位姿t_endi和涂胶枪的局部坐标系a_gun相乘，能够得到涂胶枪的全局位姿t_guni，涂胶枪的全局位姿t_guni同样为4×4的向量矩阵。[0055]在本实施例中，控制芯片通过计算得到涂胶枪的全局位姿后，同样会将涂胶枪的全局位姿输出至数据库进行存储。后续需要使用该数据时，再从数据库中调用所需的数据。[0056]图5是本发明第三个实施例的涂胶设备的控制方法的流程图。如图5所示，在一些实施方式中，步骤s310中根据涂胶枪的全局位姿确定涂胶枪的移动方向，包括以下步骤：[0057]步骤s510：确定涂胶枪的全局位姿中的平移分量。[0058]步骤s520：根据相邻两个周期的平移分量确定涂胶枪的移动方向。[0059]通过获取各周期的法兰全局位姿，再结合涂胶枪的局部坐标系，得到涂胶枪各周期的全局位姿之后，可以通过全局位姿的数据表示方式，得到各周期涂胶枪全局位姿中的平移分量(用p_gun表示)。通过当前周期的平移分量和上一周期的平移分量，能够计算获得当前周期涂胶枪的移动方向。[0060]在一些实施方式中，通过下式确定涂胶枪的移动方向：[0061][0062]其中，v_guni为第i个周期的涂胶枪的移动方向，p_guni为第i个周期的平移分量，p_guni-1为第i-1个周期的平移分量。上式中，|·|表示向量的模。[0063]具体地，当控制芯片计算获得当前周期的涂胶枪全局位姿后，获取当前周期的平移分量；并且控制芯片会从数据库中调取上一周期的涂胶枪全局位姿，来获取上一周期的平移分量。得到相邻两周期的平移分量后，通过上式即可计算得到当前周期涂胶枪的移动方向。获得的移动方向v_guni，同样是以3×1的向量矩阵来表示，并且，该v_guni是涂胶枪在全局坐标系下的一个方向向量。在获得涂胶枪的移动方向v_guni后，需要对v_guni进行向量归一化处理，以方便后续的计算。[0064]步骤s320：根据涂胶枪的移动方向，确定涂胶枪涂出的胶条相对于涂胶枪的方向信息。[0065]在涂胶枪工作的过程中，以涂胶枪为基准，涂胶枪的移动方向与涂胶枪涂出的胶条的方向相反，因此，通过涂胶枪在全局坐标系下的移动方向，可以得到胶条在全局坐标系下的方向信息。需要说明的是，方向信息为胶条在全局坐标系下的方向向量。[0066]在本实施例中，用v_gluei表示第i个周期胶条在全局坐标系下的方向向量(即方向信息)。则胶条方向向量的计算方式可以为：v_gluei＝-v_guni。[0067]步骤s330：根据方向信息确定涂胶缺陷检测机构的旋转角度。[0068]图6是本发明第四个实施例的涂胶设备的控制方法的流程图。如图6所示，在一些实施方式中，步骤s330包括以下步骤：[0069]步骤s610：根据方向信息，确定胶条在预先构建的涂胶缺陷检测机构相对于法兰的局部坐标系中的方向向量。[0070]步骤s620：根据方向向量和涂胶缺陷检测机构相对于法兰的局部坐标系的x轴轴向，确定旋转角度。[0071]得到胶条在全局坐标系下的方向向量后，可以通过将全局坐标系下的方向向量转换为涂胶缺陷检测机构局部坐标系下的方向向量，来得到胶条在涂胶缺陷检测机构的局部坐标系下的方向向量，进而能够计算出涂胶缺陷检测机构基于其局部坐标系下，需要旋转的旋转角度。[0072]在一些实施方式中，步骤s610包括：根据涂胶缺陷检测机构相对于法兰的局部坐标系和法兰的全局位姿，确定涂胶缺陷检测机构的全局位姿；根据方向信息和涂胶缺陷检测机构的全局位姿确定方向向量。[0073]具体地，要获得胶条在涂胶缺陷检测机构的局部坐标系下的方向向量，需要先获得涂胶缺陷检测机构在全局坐标系下的全局位姿。在本实施例中，通过下式确定涂胶缺陷检测机构的全局位姿：[0074]t_cami＝t_endi*a_cam[0075]其中，t_cami为第i个周期的涂胶缺陷检测机构的全局位姿，t_endi为第i个周期的法兰的全局位姿，a_cam为涂胶缺陷检测机构相对法兰的的局部坐标系。[0076]获得涂胶缺陷检测机构全局位姿的原理与获得涂胶枪全局位姿的原理相同，此处不再赘述。获得涂胶缺陷检测机构的全局位姿后，通过涂胶缺陷检测机构全局位姿的数据表示形式，得到全局位姿的旋转分量r_cam。而胶条在全局坐标系下的方向向量，和胶条在涂胶缺陷检测机构局部坐标系下的方向向量的转换关系有：[0077]r_cam*v_gun_in_cam＝v_glue[0078]其中，v_gun_in_cam表示胶条在涂胶缺陷检测机构局部坐标系下的方向向量，v_gun_in_cam同样为3×1的向量矩阵。[0079]进而可以得到：v_gun_in_cam＝inv(r_cam)*(v_glue)，式中，inv(·)表示矩阵的逆。[0080]在步骤s620中，获得胶条在涂胶缺陷检测机构局部坐标系下的方向向量后，求解该方向向量在涂胶缺陷检测机构局部坐标系的xoy平面的投影方向，与涂胶缺陷检测机构局部坐标系的x轴的夹角(用step_q表示)，该夹角即为涂胶缺陷检测机构中相机所需的旋转角度。[0081]由于涂胶缺陷检测机构局部坐标系的x轴的方向设置为：沿z轴指向涂胶缺陷检测机构中相机光轴轴线，并且x轴的方向会随着相机的旋转而旋转，因此，相机光轴轴线始终处于涂胶缺陷检测机构局部坐标系的x轴上。通过计算胶条方向向量在涂胶缺陷检测机构局部坐标系的xoy平面的投影方向，与涂胶缺陷检测机构局部坐标系的x轴的夹角；就能得到相机在旋转多少角度时，相机能够处于胶条的正上方，以实现涂胶缺陷检测机构的相机视场覆盖胶条的路径范围。[0082]在一些实施方式中，通过下式确定旋转角度step_q：[0083]step_q＝atan2(v_gun_in_camx，v_gun_in_camy)[0084]其中，v_gun_in_camx为该方向向量在涂胶缺陷检测机构局部坐标系中xoy平面投影方向在x轴上的分量，v_gun_in_camy为该方向向量在涂胶缺陷检测机构局部坐标系中xoy平面投影方向在y轴上的分量。通过求上述两个分量的反正切值，能够得到所需的旋转角度。[0085]步骤s340：根据旋转角度控制涂胶缺陷检测机构进行旋转，以使涂胶缺陷检测机构的相机视场覆盖胶条的路径范围。[0086]具体地，在控制芯片计算得到旋转角度后，控制芯片根据旋转角度控制涂胶缺陷检测机构中的旋转动力组件，来控制相机的旋转角度。示例地，可以通过控制旋转动力组件的输出功率，来控制相机的旋转角度。[0087]由此，通过获取每个预设周期的涂胶枪的全局位姿，来计算涂胶枪在全局坐标系下当前的移动方向；通过涂胶枪的移动方向，能够得到胶条在全局坐标系下的方向信息；在将胶条的方向信息转换为涂胶缺陷检测机构局部坐标系下的方向向量；再根据该方向向量来计算涂胶缺陷检测机构所需的旋转角度。从而使控制芯片根据计算得到的旋转角度，控制涂胶缺陷检测机构中的相机旋转，来自动调整相机的采样范围，进而使相机的视场始终覆盖胶条的路径范围。[0088]图7是本发明一个实施例的涂胶设备的结构框图。[0089]如图7所示，图7所示的涂胶设备700包括：处理器701和存储器703。其中，处理器701和存储器703相连，如通过总线702相连。可选地，涂胶设备700还可以包括收发器704。需要说明的是，实际应用中收发器704不限于一个，该涂胶设备700的结构并不构成对本发明实施例的限定。[0090]处理器701可以是cpu(central processing unit，中央处理器)，通用处理器，dsp(digital signal processor，数据信号处理器)，asic(application specific integrated circuit，专用集成电路)，fpga(field programmable gate array，现场可编程门阵列)或者其他可编程逻辑器件、晶体管逻辑器件、硬件部件或者其任意组合。其可以实现或执行结合本发明公开内容所描述的各种示例性的逻辑方框，模块和电路。处理器701也可以是实现计算功能的组合，例如包含一个或多个微处理器组合，dsp和微处理器的组合等。[0091]总线702可包括一通路，在上述组件之间传送信息。总线702可以是pci(peripheral component interconnect，外设部件互连标准)总线或eisa(extended industry standard architecture，扩展工业标准结构)总线等。总线702可以分为地址总线、数据总线、控制总线等。为便于表示，图7中仅用一条粗线表示，但并不表示仅有一根总线或一种类型的总线。[0092]存储器703可以是rom(read only memory，只读存储器)或可存储静态信息和指令的其他类型的静态存储设备，ram(random access memory，随机存取存储器)或可存储信息和指令的其他类型的动态存储设备，也可以是eeprom(electrically erasable programmable read only memory，电可擦可编程只读存储器)、cd-rom(compact disc read only memory，只读光盘)或其他光盘存储、光碟存储(包括压缩光碟、激光碟、光碟、数字通用光碟、蓝光光碟等)、磁盘存储介质或者其他磁存储设备、或者能够用于携带或存储具有指令或数据结构形式的期望的程序代码并能够由计算机存取的任何其他介质，但不限于此。[0093]存储器703用于存储执行本发明请方案的应用程序代码，并由处理器701来控制执行。处理器701用于执行存储器703中存储的应用程序代码，以实现前述方法实施例所示的内容。[0094]其中，涂胶设备700包括但不限于：移动电话、笔记本电脑、数字广播接收器、pda(个人数字助理)、pad(平板电脑)、pmp(便携式多媒体播放器)、车载终端(例如车载导航终端)等等的移动终端以及诸如数字tv、台式计算机等等的固定终端。图7示出的涂胶设备700仅仅是一个示例，不应对本发明实施例的功能和使用范围带来任何限制。[0095]需要说明的是，在流程图中表示或在此以其他方式描述的逻辑和/或步骤，例如，可以被认为是用于实现逻辑功能的可执行指令的定序列表，可以具体实现在任何计算机可读介质中，以供指令执行控制芯片、装置或设备(如基于计算机的控制芯片、包括处理器的控制芯片或其他可以从指令执行控制芯片、装置或设备取指令并执行指令的控制芯片)使用，或结合这些指令执行控制芯片、装置或设备而使用。就本说明书而言，“计算机可读介质”可以是任何可以包含、存储、通信、传播或传输程序以供指令执行控制芯片、装置或设备或结合这些指令执行控制芯片、装置或设备而使用的装置。计算机可读介质的更具体的示例(非穷尽性列表)包括以下：具有一个或多个布线的电连接部(电子装置)，便携式计算机盘盒(磁装置)，随机存取存储器(ram)，只读存储器(rom)，可擦除可编辑只读存储器(eprom或闪速存储器)，光纤装置，以及便携式光盘只读存储器(cdrom)。另外，计算机可读介质甚至可以是可在其上打印所述程序的纸或其他合适的介质，因为可以例如通过对纸或其他介质进行光学扫描，接着进行编辑、解译或必要时以其他合适方式进行处理来以电子方式获得所述程序，然后将其存储在计算机存储器中。[0096]应当理解，本发明的各部分可以用硬件、软件、固件或它们的组合来实现。在上述实施方式中，多个步骤或方法可以用存储在存储器中且由合适的指令执行控制芯片执行的软件或固件来实现。例如，如果用硬件来实现，和在另一实施方式中一样，可用本领域公知的下列技术中的任一项或他们的组合来实现：具有用于对数据信号实现逻辑功能的逻辑门电路的离散逻辑电路，具有合适的组合逻辑门电路的专用集成电路，可编程门阵列(pga)，现场可编程门阵列(fpga)等。[0097]在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。[0098]在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。[0099]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。[0100]在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。[0101]在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。[0102]尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。









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