一种二极管酸洗装置及酸洗工艺的制作方法

电气元件制品的制造及其应用技术1.本发明涉及二极管制造技术领域，具体为一种二极管酸洗装置及酸洗工艺。背景技术：2.二极管是用半导体材料制成的一种电子器件；它具有单向导电性能，即给二极管阳极和阴极加上正向电压时，二极管导通；当给阳极和阴极加上反向电压时，二极管截止；因此，二极管的导通和截止，则相当于开关的接通与断开；二极管在进行加工制作时，一般的生产流程包括六个方面，即焊接、酸洗、成型、电镀、引直、测试包装。3.部分厂家为了提高生产效率或降低成本，会省去二极管的酸洗步骤，如果二极管不进行酸洗或者是酸洗不充分的话，其表面附着的氧化物会影响二极管本身的导电性，进而可能会导致出现二极管失效的情况，使得生产的二极管皆为劣质产品，影响买家的使用和企业的口碑，所以酸洗是二极管生产过程中必不可少的过程。4.有些半导体生产厂家在二极管酸洗结束之后，会把装有二极管的收集筐直接从酸洗池里移出准备清洗，然后开始下一步工序，这样会把酸洗筐内和二极管外壁上附着的酸洗液滴落在车间地面上，导致车间受到污染，影响工作环境，而且附着的酸洗液较多，进行清洗时也需要使用较多的清水，产生浪费水源的情况；为了避免发生这种情况，工人会把酸洗好的二极管从酸洗池内移出酸洗液面静置一段时间，使酸洗筐内和二极管外壁上附着的酸洗液滴落到酸洗池内，然而这势必会影响二极管酸洗后面工序的工作时间，导致拉长整个二极管的生产时间，使得二极管的生产效率降低。5.鉴于此，为了克服上述技术问题，本发明提出了一种二极管酸洗装置及酸洗工艺，解决了上述技术问题。技术实现要素：6.为了弥补现有技术的不足，本发明提出了一种二极管酸洗装置及酸洗工艺，本发明通过在收集筐的正上方安装排液筒，使得收集筐内的二极管能够在酸洗时更为充分，而且还能够在二极管酸洗好之后，使收集筐内和二极管表面附着的酸洗液得到排出，不仅防止酸洗液对车间造成污染，而且也缩短了清理酸洗液的时间，提高了二极管生产的工作环境和工作效率。7.本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：本发明所述的一种二极管酸洗装置，包括酸洗池和收集筐，所述酸洗池的一侧侧壁开设有进液口，另一侧开设有出液口，酸洗池内部设有酸洗液；所述收集筐设置在酸洗池内部；8.收集筐，所述收集筐的下端连接有电动推杆，收集筐的正上方设有排液筒；所述电动推杆固定在所述酸洗池的池底；9.排液筒，所述排液筒内壁与收集筐外壁贴合，排液筒上端固连有液压缸；所述液压缸通过l形支架固定在所述酸洗池的侧壁上；10.控制器，所述控制器控制液压缸和电动推杆自动运行。11.优选的，所述酸洗池的池口到所述酸洗液表面的距离大于所述收集筐的高度。12.优选的，所述收集筐与所述排液筒之间为螺纹传动连接，收集筐与所述电动推杆之间设有圆板；所述圆板的上端与所述收集筐接触，圆板的下端与所述电动推杆固连，圆板的上端面开设有环形槽；所述环形槽内转动连接有环形块；所述环形块固连在收集筐的底部。13.优选的，所述收集筐侧壁的孔径小于所述二极管的pn结芯片的宽度，收集筐侧壁的厚度大于所述二极管引脚的长度。14.优选的，所述圆板的中部开设有通槽。15.优选的，所述圆板的外侧壁上安装有电磁铁，圆板靠近电磁铁的一侧开设有圆槽；所述电磁铁为环状；所述圆槽与所述环形槽连通，圆槽内设有弹簧和梯形滑块；所述弹簧一端与所述电磁铁固连，另一端与所述梯形滑块固连；所述梯形滑块滑动连接在所述圆槽内壁上。16.优选的，所述环形块截面形状为l形，环形块靠近所述梯形滑块的一侧端面设置为与所述梯形滑块端面相吻合的斜面。17.优选的，所述排液筒的筒口端面上安装有毛刷。18.优选的，所述收集筐的底部内表面设置为由四周向中部凹陷的弧面。19.一种二极管酸洗工艺，该酸洗工艺适用于上述的酸洗装置，该酸洗工艺的步骤如下：20.s1：将二极管放入收集筐内，把收集筐放在圆板上，启动电动推杆带动收集筐浸入酸洗池的酸洗液内；21.s2：启动液压缸带动排液筐沿着收集筐的外壁上下移动，排液筒带动收集筐旋转，酸洗液对二极管上附着的氧化物进行腐蚀；22.s3：二极管酸洗好之后，将收集筐抬升至酸洗液液面以上，重复上下移动排液筒若干次，对收集筐内和二极管表面附着的酸洗液进行抽离，毛刷对收集筐外壁上附着的氧化物残渣进行清理；23.s4：酸洗液清理好之后，启动电磁铁，电磁铁带动梯形滑块向其移动，收集筐从圆板上移走，将二极管取出进行下一步生产工序。24.本发明的有益效果如下：25.1.本发明通过在收集筐的正上方安装排液筒，使得收集筐内的二极管能够在酸洗时更为充分，而且还能够在二极管酸洗好之后，使收集筐内和二极管表面附着的酸洗液得到排出，不仅防止酸洗液对车间造成污染，而且也缩短了清理酸洗液的时间，提高了二极管生产的工作环境和工作效率。26.2.本发明通过设置酸洗池的池口到酸洗液表面的距离大于收集筐的高度，使得收集筐内排出的酸洗液能够完全流到酸洗池内，不会出现排液筒在工作时，酸洗液喷洒到酸洗池以外的情况，防止酸洗液对车间地面造成污染，保障了二极管生产时的安全性。27.3.本发明通过设置圆板，使得排液筒在上下移动的过程中，能够带动收集筐在圆板上进行旋转，使得二极管酸洗的更加充分，使得收集筐内的酸洗液排出的更加彻底，提高了二极管的酸洗效率，加快了收集筐内酸洗液的清理时间。附图说明28.下面结合附图和实施方式对本发明作进一步说明。29.图1是本发明酸洗装置的剖视图；30.图2是图1中a的放大图；31.图3是本发明酸洗工艺的流程图；32.图中：1、酸洗池；11、进液口；12、出液口；13、l形支架；2、排液筒；21、毛刷；3、收集筐；31、环形块；4、液压缸；5、电动推杆；6、圆板；61、环形槽；62、电磁铁；63、通槽；64、梯形滑块；65、弹簧；66、圆槽。具体实施方式33.为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。34.如图1至图3所示，本发明所述的一种二极管酸洗装置，包括酸洗池1和收集筐3，所述酸洗池1的一侧侧壁开设有进液口11，另一侧开设有出液口12，酸洗池1内部设有酸洗液；所述收集筐3设置在酸洗池1内部；35.收集筐3，所述收集筐3的下端连接有电动推杆5，收集筐3的正上方设有排液筒2；所述电动推杆5固定在所述酸洗池1的池底；36.排液筒2，所述排液筒2内壁与收集筐3外壁贴合，排液筒2上端固连有液压缸4；所述液压缸4通过l形支架13固定在所述酸洗池1的侧壁上；37.控制器，所述控制器控制液压缸4和电动推杆5自动运行。38.工作时，有些半导体生产厂家在二极管酸洗结束之后，会把装有二极管的收集筐3直接从酸洗池1里移出准备清洗，然后开始下一步工序，这样会把酸洗筐内和二极管外壁上附着的酸洗液滴落在车间地面上，导致车间受到污染，影响工作环境，而且附着的酸洗液较多，进行清洗时也需要使用较多的清水，产生浪费水源的情况；为了避免发生这种情况，工人会把酸洗好的二极管从酸洗池1内移出酸洗液面静置一段时间，使酸洗筐内和二极管外壁上附着的酸洗液滴落到酸洗池1内，然而这势必会影响二极管酸洗后面工序的工作时间，导致拉长整个二极管的生产时间，使得二极管的生产效率降低；39.当工作人员使用本发明时，先将需要酸洗的二极管放入收集筐3内，把收集筐3放入酸洗池1内的电动推杆5上，启动控制器带动电动推杆5运动，电动推杆5的输出轴带动收集筐3向酸洗池1的池底移动，直至将整个收集筐3全部浸入酸洗液内；启动控制器带动液压缸4运动，液压缸4带动排液筒2向下移动，直至排液筒2完全将收集筐3包裹，然后液压缸4带动排液筒2不断上下移动，使得二极管在收集筐3内不断的受到水流和空气的冲击，二极管得到充分的酸洗；等到二极管酸洗好之后，启动控制器同步带动液压缸4和电动推杆5，收集筐3和排液筒2同步向上移动，直至收集筐3移动至酸洗液表面以上，再通过液压缸4带动排液筒2向下移动，收集筐3内和二极管表面附着的酸洗液受到空间的缩小，收集筐3内的空气带动酸洗液从收集筐3侧壁上的孔流出，最终滴落到酸洗池1内；重复若干次，直至收集筐3内和二极管表面附着的酸洗液全部排出，将排液筒2移动至收集筐3上方，取走收集筐3，进行二极管生产的下一步工序；40.本发明通过在收集筐3的正上方安装排液筒2，使得收集筐3内的二极管能够在酸洗时更为充分，而且还能够在二极管酸洗好之后，使收集筐3内和二极管表面附着的酸洗液得到排出，不仅防止酸洗液对车间造成污染，而且也缩短了清理酸洗液的时间，提高了二极管生产的工作环境和工作效率。41.作为本发明的一种具体实施方式，所述酸洗池1的池口到所述酸洗液表面的距离大于所述收集筐3的高度；42.工作时，当二极管酸洗好之后，将收集筐3移动到酸洗液表面以上进行排液时，收集筐3内的酸洗液喷洒在酸洗池1的内侧壁上，最后顺着酸洗池1的侧壁流淌下去；酸洗池1的池口到酸洗液表面的距离大于收集筐3的高度的设置，使得收集筐3内排出的酸洗液能够完全流到酸洗池1内，不会出现排液筒2在工作时，酸洗液喷洒到酸洗池1以外的情况，防止酸洗液对车间地面造成污染，保障了二极管生产时的安全性。43.作为本发明的一种具体实施方式，所述收集筐3与所述排液筒2之间为螺纹传动连接，收集筐3与所述电动推杆5之间设有圆板6；所述圆板6的上端与所述收集筐3接触，圆板6的下端与所述电动推杆5固连，圆板6的上端面开设有环形槽61；所述环形槽61内转动连接有环形块31；所述环形块31固连在收集筐3的底部；44.工作时，当二极管需要进行酸洗时，排液筒2在上下移动时带动收集筐3在酸洗液体内进行旋转，收集筐3带动环形块31在圆板6开设的环形槽61内滑动；当收集筐3需要进行排液时，排液筒2在上下移动的同时带动收集筐3在酸洗液体外进行旋转，收集筐3带动环形块31在圆板6开设的环形槽61内滑动；圆板6的设置使得排液筒2在上下移动的过程中，能够带动收集筐3在圆板6上进行旋转，使得二极管酸洗的更加充分，使得收集筐3内的酸洗液排出的更加彻底，提高了二极管的酸洗效率，加快了收集筐3内酸洗液的清理时间。45.作为本发明的一种具体实施方式，所述收集筐3侧壁的孔径小于所述二极管的pn结芯片的宽度，收集筐3侧壁的厚度大于所述二极管引脚的长度；46.工作时，收集筐3侧壁的孔径小于二极管的pn结芯片的宽度的设置，使得当二极管在进行酸洗时，能够防止二极管穿过收集筐3侧壁上的孔滑落到酸洗池1内；收集筐3侧壁的厚度大于二极管引脚的长度的设置，使得当收集筐3在进行排液时，能够防止二极管引脚穿过收集筐3侧壁上的孔伸到收集筐3外部，使得排液筒2沿着收集筐3的侧壁上下移动时不会对二极管造成损伤；进一步保障了二极管酸洗和收集筐3排液时的安全性。47.作为本发明的一种具体实施方式，所述圆板6的中部开设有通槽63；48.工作时，当二极管酸洗好之后需要收集筐3进行排液时，排液筒2沿着收集筐3的侧壁向下移动，收集筐3内的空气受到空间缩小的影响，带动酸洗液从收集筐3上的孔内流出；通过在圆板6中部开设通槽63，使得收集筐3在进行排液时，可从收集筐3上侧壁和底部的孔内一同流出，排出的酸洗液增多，进一步加快了收集筐3内和二极管表面附着的酸洗液的清理时间，缩短了二极管的酸洗时间，进一步提高了二极管的生产效率。49.作为本发明的一种具体实施方式，所述圆板6的外侧壁上安装有电磁铁62，圆板6靠近电磁铁62的一侧开设有圆槽66；所述电磁铁62为环状；所述圆槽66与所述环形槽61连通，圆槽66内设有弹簧65和梯形滑块64；所述弹簧65一端与所述电磁铁62固连，另一端与所述梯形滑块64固连；所述梯形滑块64滑动连接在所述圆槽66内壁上；50.工作时，当二极管需要进行酸洗时，将收集筐3放在圆板6上，与收集筐3固连的环形块31伸入环形槽61内，此时，圆槽66内的梯形滑块64部分位于环形槽61内，当环形块31与梯形滑块64接触时，受到梯形滑块64倾斜设置的端面的影响，环形块31推动梯形滑块64向圆槽66内部移动；当环形块31移动至环形槽61槽底时，环形块31位于梯形滑块64的下方，此时，圆槽66内的梯形滑块64不再受到环形块31挤压的影响，被弹簧65的复位作用推动至环形槽61内，直至梯形滑块64的顶端与环形块31的侧壁接触，从而把环形块31在环形槽61内从竖直方向上进行限位，这样既能够稳定住收集筐3，同时也不影响排液筒2在上下移动时，带动收集筐3进行旋转；当二极管酸洗结束后，启动电磁铁62，电磁铁62通过磁力带动梯形滑块64向圆槽66内部移动，环形块31不再受到梯形滑块64的阻挡，收集筐3带动环形块31从圆板6上移走；梯形滑块64的设置使得当二极管需要进行酸洗时，能够将环形块31固定在环形槽61的槽底，从而固定住收集筐3，防止出现收集筐3放入酸洗液体内时，受到酸洗液的浮力产生位移的情况。51.作为本发明的一种具体实施方式，所述环形块31截面形状为l形，环形块31靠近所述梯形滑块64的一侧端面设置为与所述梯形滑块64端面相吻合的斜面；52.工作时，当环形块31伸入圆板6的环形槽61内时，环形块31倾斜设置的端面与梯形滑块64相接触，能够减小梯形滑块64对环形块31向环形槽61槽底移动时的阻力，防止出现环形块31在伸入环形槽61内阻力过大产生卡顿的现象，保障了收集筐3放在圆板6上和从圆板6上移走时的稳定性。53.作为本发明的一种具体实施方式，所述排液筒2的筒口端面上安装有毛刷21；54.工作时，当二极管需要酸洗，收集筒放入酸洗液内时，二极管上的氧化物会被酸洗液腐蚀掉，并流入酸洗池1内，腐蚀掉的氧化物残渣部分会附着在收集筐3的外侧壁上，长此以往，氧化物残渣附着在收集筐3的外侧壁过多的话，会影响排液筒2带动收集筐3转动时的效果，最终影响到二极管的酸洗效果和时间；所以，毛刷21的设置使得当排液筒2沿着收集筐3的外壁上下移动时，能够对收集筐3外侧壁上附着的氧化物残渣进行清理，保障了排液筒2带动收集筐3的转动效果和排液效果。55.作为本发明的一种具体实施方式，所述收集筐3的底部内表面设置为由四周向中部凹陷的弧面；56.工作时，由四周向中部凹陷的弧面能够在收集筐3进行排液时，酸洗液向收集筐3底部内表面的中部汇聚；但当排液筒2带动收集筐3进行旋转时，受到离心力的作用，酸洗液会从收集筐3底部内表面的中部向四周分散，使得酸洗液能够从收集筐3底部流出时更加均匀，提高酸洗液从收集筐3内流出的速度。57.一种二极管酸洗工艺，该酸洗工艺适用于上述的酸洗装置，该酸洗工艺的步骤如下：58.s1：将二极管放入收集筐3内，把收集筐3放在圆板6上，启动电动推杆5带动收集筐3浸入酸洗池1的酸洗液内；59.s2：启动液压缸4带动排液筐沿着收集筐3的外壁上下移动，排液筒2带动收集筐3旋转，酸洗液对二极管上附着的氧化物进行腐蚀；60.s3：二极管酸洗好之后，将收集筐3抬升至酸洗液液面以上，重复上下移动排液筒2若干次，对收集筐3内和二极管表面附着的酸洗液进行抽离，毛刷21对收集筐3外壁上附着的氧化物残渣进行清理；61.s4：酸洗液清理好之后，启动电磁铁62，电磁铁62带动梯形滑块64向其移动，收集筐3从圆板6上移走，将二极管取出进行下一步生产工序。62.具体工作流程如下：63.当工作人员使用本发明时，先将需要酸洗的二极管放入收集筐3内，把收集筐3放入酸洗池1内的电动推杆5上，启动控制器带动电动推杆5运动，电动推杆5的输出轴带动收集筐3向酸洗池1的池底移动，直至将整个收集筐3全部浸入酸洗液内；启动控制器带动液压缸4运动，液压缸4带动排液筒2向下移动，直至排液筒2完全将收集筐3包裹，然后液压缸4带动排液筒2不断上下移动，使得收集筐3内的二极管得到充分的酸洗；等到二极管酸洗好之后，启动控制器同步带动液压缸4和电动推杆5，收集筐3和排液筒2同步向上移动，直至收集筐3移动至酸洗液表面以上，再通过液压缸4带动排液筒2向下移动，收集筐3内和二极管表面附着的酸洗液受到空间的缩小，收集筐3内的空气带动酸洗液从收集筐3侧壁上的孔流出，最终滴落到酸洗池1内；重复若干次，直至收集筐3内和二极管表面附着的酸洗液全部排出，将排液筒2移动至收集筐3上方，取走收集筐3，进行二极管生产的下一步工序；当二极管酸洗好之后，将收集筐3移动到酸洗液表面以上进行排液时，收集筐3内的酸洗液喷洒在酸洗池1的内侧壁上，最后顺着酸洗池1的侧壁流淌下去；当二极管需要进行酸洗时，排液筒2在上下移动时带动收集筐3在酸洗液体内进行旋转，收集筐3带动环形块31在圆板6开设的环形槽61内滑动；当收集筐3需要进行排液时，排液筒2在上下移动的同时带动收集筐3在酸洗液体外进行旋转，收集筐3带动环形块31在圆板6开设的环形槽61内滑动；收集筐3侧壁的孔径小于二极管的pn结芯片的宽度的设置，使得当二极管在进行酸洗时，能够防止二极管穿过收集筐3侧壁上的孔滑落到酸洗池1内；收集筐3侧壁的厚度大于二极管引脚的长度的设置，使得当收集筐3在进行排液时，能够防止二极管引脚穿过收集筐3侧壁上的孔伸到收集筐3外部，使得排液筒2沿着收集筐3的侧壁上下移动时不会对二极管造成损伤；当二极管酸洗好之后需要收集筐3进行排液时，排液筒2沿着收集筐3的侧壁向下移动，收集筐3内的空气受到空间缩小的影响，带动酸洗液从收集筐3侧壁和底部上的孔内流出；当二极管需要进行酸洗时，将收集筐3放在圆板6上，与收集筐3固连的环形块31伸入环形槽61内，此时，圆槽66内的梯形滑块64部分位于环形槽61内，当环形块31与梯形滑块64接触时，受到梯形滑块64倾斜设置的端面的影响，环形块31推动梯形滑块64向圆槽66内部移动；当环形块31移动至环形槽61槽底时，环形块31位于梯形滑块64的下方，此时，圆槽66内的梯形滑块64不再受到环形块31挤压的影响，被弹簧65的复位作用推动至环形槽61内，直至梯形滑块64的顶端与环形块31的侧壁接触，从而把环形块31固定在环形槽61槽底，进而固定住收集筐3；当二极管酸洗结束后，启动电磁铁62，电磁铁62通过磁力带动梯形滑块64向圆槽66内部移动，环形块31不再受到梯形滑块64的阻挡，收集筐3带动环形块31从圆板6上移走；当二极管需要酸洗，收集筒放入酸洗液内时，二极管上的氧化物会被酸洗液腐蚀掉，并流入酸洗池1内，腐蚀掉的氧化物残渣部分会附着在收集筐3的外侧壁上，长此以往，氧化物残渣附着在收集筐3的外侧壁过多的话，会影响排液筒2带动收集筐3转动时的效果，最终影响到二极管的酸洗效果和时间。









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