热处理装置的制作方法

供热;炉灶;通风;干燥设备的制造及其应用技术1.本发明涉及具备通过输送用杆将被处理物相对于热处理炉搬入以及搬出的机构的热处理装置。背景技术：2.在向热处理炉搬入被处理物并进行热处理的热处理装置中，从热处理炉外输送被处理物，通过热处理炉内的支承件支承被处理物后进行热处理。3.例如在专利文献1中，经由挡板在炉体的被处理物搬入的搬入搬出口(开口部)上设置有准备室40。被处理物被准备室40内的支承机构支承后，由支臂搬入炉体内。然后，被处理物在炉体内被交接给支承件。如果设置这种准备室，则存在能够简化热处理装置的结构且实现小型化的优点。4.此外，根据专利文献2所示的结构，从热处理炉外输送被处理物，在热处理容器内使被处理基板下降而搭载到处理台上。此时，由于被处理物处于低温，因此以使处理台与基板的温度差变小的方式确保充分的下降时间。这样，消除处理台与基板的温度差，减少堆积处理台上的膜的剥离。5.专利文献1：日本专利公开公报特开2017-117850号6.专利文献2：日本专利公开公报特开2001-250782号技术实现要素：7.但是，上述任一个热处理装置当通过炉内的支承件支承输送到热处理炉内的被处理构件时，都存在产生热冲击的可能性。8.例如，在专利文献1所记载的热处理装置中，在炉内支承被处理物时，未考虑支承件与被处理物的温度差。因此，如果两者的温度差较大，则存在支承件与被处理物接触时产生热冲击的可能性。9.此外，在专利文献2所记载的热处理装置中，在热处理容器内使被处理基板下降而搭载到处理台上时，尽管以使处理台与基板的温度差变小的方式确保充分的下降时间，但认为在热处理容器内支承被处理基板的升降销14已经被加热。因此，利用升降销14搭载被处理物时的、升降销14的前端部与被处理物之间的温度差变大，在部分上产生热冲击。10.这样，在以往的热处理装置中，当从外部输送并通过热处理炉内的支承件支承被处理物时，通过高温的支承件支承未成为炉内的高温状态的被处理物，在被处理物产生热损伤。其结果是，在被处理物产生裂纹或破坏(破裂)。11.本发明的目的在于提供一种热处理装置，当在热处理炉内输送并通过支承件支承被处理物时，不会对被处理构件产生热冲击。12.本发明的热处理装置具备：13.热处理炉，形成热处理空间，对所述热处理空间内的被处理物实施加热处理；14.支承件，设置在所述热处理空间内；15.输送装置，在将所述被处理物从所述热处理空间外输送到所述热处理空间内之后，使所述被处理物支承于所述支承件。16.此外，具备温度检测装置，该温度检测装置检测由所述输送装置输送到所述热处理装置内的所述被处理物的温度，17.所述输送装置基于由所述温度检测装置检测到的温度，决定将由所述输送装置输送到所述热处理装置内的所述被处理物支承于所述支承件的时刻。18.另外，在本发明中，被处理物是指进行热处理的目的物的工件，也包括支承工件的托盘(以下相同)。19.被处理物在从热处理空间外输送到热处理空间内之后，被设置在热处理空间内的支承件支承。然后，调整该支承的时刻。即，利用温度检测装置基于输送到热处理装置内的被处理物的温度调整所述时刻。20.通过像这样进行控制，能够将输送到热处理装置内的被处理物在热处理空间内加热后通过支承件支承。于是，通过支承件支承被处理物时的两者的温度差不高，不会对被处理物产生热冲击。21.在由温度检测装置检测到的温度高于损伤温度的情况下，输送装置将由输送装置输送到热处理装置内的被处理物支承于支承件。损伤温度是因热冲击而使被处理物产生裂纹或破裂的温度，即，是在被处理物支承于支承件时，由于因被处理物与支承件的温度差产生的热冲击而使所述被处理物损伤的温度。22.此外，温度检测装置不与被处理物接触地检测被处理物的温度。作为这样的温度检测装置通常是辐射温度计。23.根据本发明，在将被处理物输送到热处理炉内并支承于支承件时，由于被处理物在达到一定的高温后被支承，因此能够防止被处理物因热冲击而损伤。附图说明24.图1的(a)、图1的(b)是表示本发明的实施方式的热处理装置的概要结构的侧视图。25.图2是输送用杆的前端部(第一端部)的俯视图。26.图3的(a)是侧视图，图3的(b)是输送用杆的前端部(第一端部)的俯视图，图3的(c)是端面图，图3的(d)是外观立体图。27.图4是表示热处理空间的z方向上的被处理物、支承件的位置关系的图。28.图5的(a)、图5的(b)是表示输送用杆和支承件的举动的图。29.图6是表示形成于输送室的前壁的开口和输送用杆的图。30.图7的(a)、图7的(b)是表示切换装置的一个构成例的图。31.图8的(a)、图8的(b)、图8的(c)、图8的(d)、图8的(e)是表示从热处理装置的外部投入被处理物到进行热处理为止的工序的图。32.图9的(a)、图9的(b)、图9的(c)、图9的(d)是表示从被处理物的热处理后到将被处理物取出到热处理装置的外部为止的工序的图。33.图10是表示整体的动作的流程图。34.图11的(a)、图11的(b)是概念性地表示支承件的另一例的图。35.图12是输送用杆的派生例的结构的局部俯视图。36.图13是表示使输送用杆旋转的派生例的结构的图。37.图14是表示使输送用杆旋转的其他派生例的局部结构的图。38.附图标记说明：39.10：热处理装置；20：热处理炉；21：前壁；30：输送室；31：前壁；32：隔热壁；39：投入口；41、42：输送用杆；50：输送装置；51：杆保持构件；60：切换装置；63：结合板；200：热处理空间；201：开口；230～233：支承件；240：热源；300：输送空间；301：开口；302：开口；411：输送用杆41的侧面；412、422：支承件；421：输送用杆42的侧面；423：支承件422的外周端；601：轴构件；602：致动器；611：转轴；612：滑动板；613：滑动板612的凹槽；614：销；621：转轴；622：滑动板；623：滑动板622的凹槽；624：销；4111：输送用杆41的第一端部；4112：输送用杆41的第二端部；4211：输送用杆42的第一端部；4212：输送用杆42的第二端部；wk：被处理物。具体实施方式40.参照附图对本发明的实施方式的热处理装置进行说明。图1的(a)、图1的(b)是本发明实施方式的热处理装置的简要结构侧视图。在图1的(a)、图1的(b)中，对于输送室和热处理炉示出了剖视图。此外，图1的(a)表示被处理物位于输送室内的情况，图1的(b)表示被处理物位于热处理炉内的情况。图2是输送用杆的前端部(第一端部)的俯视图。图3的(a)是侧视图，图3的(b)是输送用杆的前端部(第一端部)的俯视图，图3的(c)是端面图，图3的(d)是外观立体图。图4是表示热处理空间的z方向上的被处理物、支承件的位置关系的图。41.以下，将高度方向设为z方向，输送用杆的移动方向设为x方向，与x方向正交的方向设为y方向进行说明。42.(热处理装置10的整体结构)43.如图1的(a)、图1的(b)、图2所示，热处理装置10具备热处理炉20、输送室30、输送用杆41、输送用杆42、输送装置50以及切换装置60。44.热处理炉20和输送室30沿着一个方向(图1的(a)、图1的(b)中的x方向)排列配置。热处理炉20与输送室30连接。45.热处理炉20具有对被处理物进行加热处理的热处理空间(内部空间)200。热处理炉20由保持热处理空间200的气氛的房间构成。在热处理炉20的上部的壁构造体设置有气体导入部(未图示)，从气体导入部向热处理空间200内导入规定的气氛气体(热处理气体)。46.在热处理空间200配置有用于支承被处理物wk的支承件230～233以及热源240。支承件230～233由整体呈棒状且前端细的陶瓷构成，以沿着z方向延伸的方式由未图示的保持部件保持在热处理空间200内。如图4所示，4个支承件230～233以在x方向上排列两个且在y方向上排列两个的方式配置。支承件230～233的前端位置位于比输送用杆41和输送用杆42的上端高的位置。47.在接近热处理空间200的上侧的壁的位置以及接近下侧的壁的位置分别配置有热源240。但是并不限定于此，热源240还可以配置在热处理空间200的侧方。热源240只要能够对由支承件230～233支承的被处理物wk均匀加热即可。48.在构成热处理炉20的壁中的一个侧壁(前壁21)形成有开口201。开口201贯穿前壁21。经由该开口201，热处理炉20的热处理空间200与输送室30的输送空间(内部空间)300相连。49.在构成热处理炉20的其他壁(上壁)的中央部开设有孔。此外，设置在接近其他壁(上壁)的位置的热源240也在与所述孔对应的位置设置有其他孔。在这二个孔经由窗部配置有作为温度检测装置的辐射温度计250。如后所述，辐射温度计250检测被输送到热处理炉内的被处理物wk的温度。窗部可以由不吸收辐射温度计250辐射的波长(几μ～10μ以下)的窗玻璃构成。50.输送室30具有输送空间300。在构成输送室30的壁中的一个侧壁(前壁31)形成有开口301以及开口302(参照图5)。开口301、302贯穿前壁31。输送用杆41和输送用杆42能够利用这些开口301、302前进和后退。51.输送室30配置有隔热壁32。隔热壁32配置在输送室30中的热处理炉20侧的端部附近。隔热壁32为可动式，能够切换输送空间300中的与开口201相连的一侧的空间和与开口301相连的一侧的空间的切断、连通。52.输送用杆41和输送用杆42为沿着一个方向延伸的棒状(在本技术中为圆柱状)。输送用杆41和输送用杆42的材质由难以腐蚀的不锈钢(sus)构成。53.输送用杆41和输送用杆42的延伸方向与热处理炉20和输送室30的排列方向平行。输送用杆41和输送用杆42隔开规定的距离平行地配置。输送用杆41和输送用杆42的排列方向是与x方向以及z方向垂直的方向(图1a、图1b中的y方向)。输送用杆41和输送用杆42之间的距离ws(参照图2)也考虑后述的支承件412以及支承件422的长度而大于支承件230～233的y方向的尺寸。54.输送用杆41和输送用杆42插通形成于输送室30的前壁31的第二开口。输送用杆41的延伸方向的第一端部4111和输送用杆42的延伸方向的第一端部4211(参照图2)配置在输送室30的内侧，输送用杆41的延伸方向的第二端部4112和输送用杆42的延伸方向的第二端部4212(参照图6)配置在输送室30的外部。55.如后所述，输送用杆41和输送用杆42分别45度旋转。将0度时称作杆状态a，将45度旋转时称作杆状态b。详细情况如后所述，输送用杆41和输送用杆42反复以下的工序。56.输送用杆41和输送用杆42，57.(工序1)在输送室30内以杆状态b从上方接受被处理物wk。设置被处理物wk。58.(工序2)以杆状态b前进而使第一端部4111、4211移动到热处理炉20内。59.(工序3)当被处理物wk的温度上升至规定温度时设为杆状态a。通过辐射温度计250的输出判定是否已上升到规定温度。此时，被处理物wk放置并支承在4个支承件230～233上。对被处理物wk进行热处理。60.(工序4)以杆状态a后退，使第一端部4111、4211移动到输送室30内。61.(工序5)在对被处理物wk的热处理结束时，以杆状态a前进而使第一端部4111、4211移动到热处理炉20内。62.(工序6)设为杆状态b。此时，从支承件230～233接受并支承被处理物wk。63.(工序7)以杆状态b后退，使第一端部4111、4211移动到输送室30内。64.(工序8)以杆状态b将被处理物wk取出到外部。65.x方向上的输送用杆41的延伸方向的第一端部4111和输送用杆42的延伸方向的第一端部4211的位置相同，输送用杆41的延伸方向的第二端部4112和输送用杆42的延伸方向的第二端部4212相同。66.输送装置50以输送室30为基准配置在与热处理炉20连接的一侧相反的一侧。即，输送装置50配置在输送室30以及热处理炉20的外侧。输送装置50经由杆保持构件51与输送用杆41和输送用杆42连接。输送用杆41和输送用杆42以能够朝沿着各自的侧面的方向旋转的状态(杆状态a和杆状态b)保持于杆保持构件51。67.输送装置50沿着前后方向的x方向移动。通过该输送装置50的移动，输送用杆41和输送用杆42也沿着前后方向的x方向移动。由此，如图1a所示，当输送装置50位于移动范围的第一端部时，输送用杆41的第一端部4111的部分和输送用杆42的第一端部4211的部分配置在输送室30的输送空间300中。另一方面，如图1b所示，当输送装置50位于移动范围的第二端部时，输送用杆42的第一端部4211的部分和输送用杆42的第一端部4211的部分配置在热处理炉20的热处理空间200中。68.输送装置50配置在热处理炉20的外侧且与其分开的位置。因此，输送装置50不需要散热措施。输送装置50可由廉价的普及产品构成。69.如上所述，热处理装置10在输送室30中，载置在输送用杆41的第一端部4111的部分和输送用杆42的第一端部4211的部分的被处理物wk经由开口201被搬入到热处理炉20内(图1的(a)→图1的(b))。搬入热处理炉20内的被处理物wk的温度较低，但是在热处理炉20内上升到规定的温度时成为杆状态b→杆状态a，被支承件230～233支承。此时，由于被处理物wk的温度被充分加热，所以当被支承件230～233支承时不会对被处理物wk产生热冲击。70.对被处理物wk的热冲击依赖于被处理物wk的材料的对热冲击温度特性。对热冲击温度特性是耐受急剧的温度变化的温度特性。例如，陶瓷中的氧化铝的对热冲击温度为200℃左右。71.因此，进行控制，以使由支承件230～233被处理物wk支承时的被处理物wk与支承件230～233的温度差成为对热冲击温度以内。例如，在被处理物wk的被支承点附近为氧化铝的情况下，将被处理物wk加热直到上述温度差成为200℃以内为止。热控制的具体例如下所述。72.热处理炉20内的温度被保持在1300℃。在被处理物wk即将被搬入热处理炉20内之前，被处理物wk的温度是常温。当被处理物wk被搬入热处理炉20内时，被处理物wk被加热。此时，由于被处理物wk以杆状态b被输送用杆41、42支承，所以没有对被处理物wk的热冲击。当被处理物wk的温度上升到1100℃以上时，将输送用杆41、42设为杆状态a。此时，尽管被处理物wk被支承件230～233支承，但是两者的温度差在200℃以下。因此，不对被处理物wk产生热冲击。本发明的损伤温度在本例中是两者的温度差为200℃以上的1100℃以下。73.另外，支承件230～233也可以仅将前端部通过其他部件构成。这样，即使前端部破损也容易更换。此外，也可以根据被处理物wk的特性更换前端部。前端部例如只要通过螺纹结构安装到主体部即可。74.接着，对切换装置60和输送用杆41、42进行说明。75.切换装置60与输送用杆41的第二端部4112和输送用杆42的第二端部4212连接。切换装置60具备旋转辅助机构，所述旋转辅助机构使输送用杆41以及输送用杆42朝沿着各自的侧面的方向旋转而保持为杆状态a和杆状态b中的任一状态。76.在输送用杆41配置有用于支承被处理物wk的支承件412，在输送用杆42配置有支承件422。77.如图2所示，支承件412为2个，2个支承件412与输送用杆41的第一端部4111的附近(输送用杆41的第一端部4111的部分)连接。2个支承件412在输送用杆41的延伸方向上以间隔ls412配置。该间隔ls412由输送时支承的被处理物wk的沿着x方向的大小或被处理物wk的大小决定，被决定为2个支承件412与被处理物wk的背面接触。78.2个支承件412与输送用杆41的侧面411连接。2个支承件412从侧面411向输送用杆42侧突出。2个支承件412的突出量l412由被处理物wk的高度方向的位移量决定。79.如图3a～图3d所示，2个支承件412是圆棒，在前端具有外周端413。由此，当支承被处理物wk时，外周端413与被处理物wk的背面抵接。即，支承件412能够以点的方式支承被处理物wk。因此，支承件412与被处理物wk的接触能够被抑制到最小限度。由此，例如能够抑制由于经由与被处理物wk抵接的支承件412散热而在被处理物wk产生局部的温度差，从而产生被处理物wk变形等热影响。另外，通过进一步沿着x方向排列2个支承件412，能够稳定地支承被处理物wk。80.如图2所示，支承件422为2个，2个支承件422与输送用杆42的第一端部4211的附近(输送用杆42的第一端部4211的部分)连接。2个支承件422在输送用杆42的延伸方向上以间隔ls422配置。该间隔ls422由输送时支承的被处理物wk的沿着x方向的大小决定，被决定为2个支承件422与被处理物wk的背面接触。81.2个支承件422与输送用杆42的侧面421连接。2个支承件422从侧面421向输送用杆41侧突出。2个支承件422的突出量l422由被处理物wk的高度方向的位移量决定。82.图5的(a)、图5的(b)是输送用杆和支承件的动作示意图。图5的(a)为杆状态b，图5的(b)为杆状态a。83.2个支承件422与2个支承件412相同是圆棒，在前端具有外周端423(参照图5)。由此，在杆状态b下，当支承被处理物wk时，外周端423与被处理物wk的背面抵接。即，支承件422能够以点的方式支承被处理物wk。因此，支承件422与被处理物wk的接触能够被抑制到最小限度。由此，例如能够抑制由于经由与被处理物wk抵接的支承件422散热而在被处理物wk产生局部的温度差，从而产生被处理物wk变形等热影响。84.此外，通过进一步沿着x方向排列2个支承件422，能够稳定地支承被处理物wk。此处示出了支承件412、422是圆棒的例子，但并不局限于此，只要是三棱柱或多棱柱的棒状体、或者前端为半球状的棒状体等，能够以点接触的方式支承被处理物的部件即可。85.(输送用杆41、42和支承件412、422的举动)86.如上所述，通过切换装置60使输送用杆41和输送用杆42旋转。由此，支承件412和支承件422能够成为图5的(a)所示的杆状态b(45度旋转)的姿势和图5的(b)所示的杆状态a的姿势。87.在杆状态b下，支承件412的前端比输送用杆41的上端靠上侧，支承件422的前端比输送用杆42的上端靠上侧。进而，如图5的(a)所示，在杆状态b下，支承在支承件412和支承件422的前端的被处理物wk配置在比支承件230～233的上端靠上方的位置。88.杆状态a(0度旋转)是支承件412的前端比输送用杆41的上端靠下侧、支承件422的前端比输送用杆42的上端靠下侧的形态。89.因此，通过利用该切换，在输送室30中通过杆状态b将被处理物wk载置于支承件412和支承件422，并直接输送到热处理炉20内，由此被处理物wk被搬运到支承件230～233的上方。90.当被处理物wk被加热至规定的温度时，切换到杆状态a，被处理物wk从由支承件412和支承件422的支承中解放出来，载置于支承件230～233。91.在被处理物wk在热处理空间200内被热处理之后，当在杆状态a下将输送用杆41、42插入到热处理炉20内时，将输送用杆41、42配置在被处理物wk的下方。即，输送用杆41、42不与被处理物wk冲突地配置在热处理炉20内。92.在该状态下，使输送用杆41、42旋转45度而切换为杆状态b。于是，被处理物wk从由支承件230～233支承切换至由支承件412和支承件422支承。由此，被处理物wk从支承件230～233分离。然后，通过保持该状态进行输送，将被处理物wk从热处理炉20搬出到输送室30。93.这样，通过使用本实施方式的结构，能够不改变输送用杆41、42的高度方向的位置，将被处理物wk从输送室30内输送到热处理炉20内，并在将被处理物wk加热到规定温度后由支承件230～233支承。之后，对被处理物wk进行热处理、将被处理物wk从支承件230～233抬起，并从热处理炉20内输送到输送室30内。94.由此，开口201的高度可以是从输送用杆41、42的下端到被处理物wk的上表面的高度程度。因此，能够减小开口201的开口面积，能够抑制热处理炉20的热量、填充的气体经由开口201泄漏到输送室30中。即，能够抑制由于存在开口201而导致的热处理炉20的温度、气氛的变化。但是，在优选的实施例中，将冷却气体p设为与热处理空间200内的气体相同，以使热处理空间200与输送空间300的气氛相同。或者，将两者的主要成分设为相同。由此，即使通过隔热壁32反复进行开口201的开闭，也能够将热处理空间200与输送空间300的气氛保持为相同。95.此外，包括切换装置60和输送装置50的驱动装置设置在热处理炉20和输送室30的外侧且与它们分开的位置。因此，切换装置60和输送装置50可以不是应对高热的部件，而使用廉价的通用部件构成。96.另外，通过使用本实施方式的结构，能够降低输送室30的高度。由此，能够减小输送室30的体积，减少输送室30用的气体的使用量，也能够减少输送室30的气氛的置换时间。97.另外，通过使用本实施方式的结构，能够减小开口301、302的开口面积。图6是表示形成于输送室的前壁的开口和输送用杆的图。98.如上所述，在热处理装置10中，输送用杆41、42仅沿着x方向移动，在z方向上不移动。因此，开口301、302只要是供输送用杆41、42插通的大小即可，例如是沿着输送用杆41、42的外形(圆周面)的形状，只要比输送用杆41、42的外形稍大即可。例如，开口301、302可以是与输送用杆41、42的截面形状相同的形状、大致相同的尺寸的圆形开口。99.更具体地说，开口301的直径只要是与输送用杆41的直径大致相同的程度且较大即可。此时，开口301的直径越接近输送用杆41的直径越好。此外，开口301的直径只要比支承件412的第一姿势中的输送用杆41的下端与支承件412的上端之间的距离h41短即可。100.同样地，开口302的直径只要是与输送用杆42的直径大致相同的程度且较大即可。此时，开口302的直径越接近输送用杆42的直径越好。此外，开口302的直径只要比支承件422的第一姿势中的输送用杆42的下端与支承件422的上端之间的距离h42短即可。101.通过这样的结构，能够减小开口301、302的开口面积。由此，能够减小输送室30和外部经由开口301、302连通的面积。因此，能够减小外部的温度以及气氛对输送室30的内部温度以及气氛造成的影响。进而，能够减小经由输送室30对热处理炉20的内部温度以及气氛造成的影响。102.另外，使输送用杆41、42旋转的切换装置60例如由图7的(a)、图7的(b)所示的结构实现。图7的(a)、图7的(b)是表示切换装置的一个构成例的图，图7的(a)对应图5的(a)的杆状态b，图7的(b)对应图5的(b)的杆状态a。103.如图7的(a)、图7的(b)所示，切换装置60具备转轴611、转轴621、滑动板612、滑动板622、结合板63、轴构件601以及致动器602。104.转轴611是从输送用杆41向输送用杆42侧延伸的形状。转轴611的第一端部固定于输送用杆41的第二端部4112。转轴611的第二端部与滑动板612连接。此时，在滑动板612上形成有沿着y方向延伸的凹槽613，转轴611的第二端部通过将配置于该第二端部的销614嵌入凹槽613而相对于滑动板612能够滑动地连接。105.转轴621是从输送用杆42向输送用杆41侧延伸的形状。转轴621的第一端部固定于输送用杆42的第二端部4212。转轴621的第二端部与滑动板622连接。此时，在滑动板622上形成有沿着y方向延伸的凹槽623，转轴621的第二端部通过将配置于该第二端部的销624嵌入凹槽623而相对于滑动板622能够滑动地连接。106.滑动板612和滑动板622固定于结合板63。更具体地说，滑动板612固定于结合板63中的y方向的第一端部，滑动板622固定于结合板63中的y方向的第二端部。107.在结合板63的y方向的中心连接有沿着z方向延伸的轴部件601的第一端部。轴部件601的第二端部与致动器602连接。108.在这样的结构中，通过致动器602使轴部件601的长度变化，由此使结合板63、滑动板612以及滑动板622的z方向上的位置变化。伴随着该变化，销614在凹槽613内移动(滑动)，销624在凹槽623内移动(滑动)。然后，伴随着销614的移动，转轴611转动，伴随着销624的移动，转轴621转动。通过这些转轴611、621的转动，输送用杆41、42转动。109.通过将这样的结构用于切换装置60，能够使输送用杆41的旋转和输送用杆42的旋转同步。因此，能够稳定地进行被处理物wk的抬起等。110.另外，具备以上结构的热处理装置10例如通过进行图8、图9所示的处理，进行被处理物wk的热处理。111.图8的(a)、图8的(b)、图8的(c)、图8的(d)、图8的(e)是表示从热处理装置的外部投入被处理物wk到进行热处理为止的工序的图。图9的(a)、图9的(b)、图9的(c)、图9的(d)是表示从被处理物wk的热处理后到将被处理物wk取出到热处理装置的外部为止的工序的图。此外，图10用流程图表示图8、图9所示的工序。112.首先，如图8的(a)所示，在输送用杆41、42的第一端部4111、4211位于输送室30内的状态下，从投入口39投入被处理物wk(st1)。此时，支承件412、422处于杆状态b，被处理物wk被放置在支承件412、422上。在该状态下，以将输送室30的输送空间300分离为存在输送用杆41、42的一侧和与开口201相连的一侧的方式设置隔热壁32。由此，能够抑制投入口39与开口201直接相连。如上所述，在投入被处理物wk之后，使投入口39成为关闭状态。然后，在将被处理物wk投入输送室30内时，为了除去从投入口39混入的外部空气，进行输送室30的置换处理。该置换处理是通过向输送室30内供给氮气等吹扫气体来进行的，输送室30内的空气被吹扫气体赶出。由此，输送室30内的气氛被置换为氮气等惰性气体气氛。113.接着，如图8的(b)所示，在投入口39关闭的状态下，隔热壁32向上方移动。由此，成为能够将输送用杆41、42以及被处理物wk经由开口201搬入到热处理炉20的状态。114.接着，如图8的(c)所示，通过输送装置50使输送用杆41、42移动(st2)，将输送用杆41、42的第一端部4111、4211插入到热处理炉20内。由此，将被处理物wk输送到支承件230～233的上方。115.在该状态下，对被处理物wk进行加热。被处理物wk的温度由辐射温度计250测定，待机至该温度达到规定温度为止(st3、st4)。116.接着，当被处理物wk的温度到达规定温度时，决定为是将被处理物wk支承于支承件230～233的时刻，如图8的(d)所示，将支承件412、422从杆状态b切换为杆状态a，通过支承件230～233支承被处理物wk(st5)。117.接着，如图8的(e)所示，通过输送装置50使输送用杆41、42移动，使输送用杆41、42的第一端部4111、4211退回到输送室30内(st6)。在该状态下，隔热壁32向下方移动，将输送室30的输送空间300分离为存在输送用杆41、42的一侧和与开口201相连的一侧。换言之，隔热壁32成为堵塞开口201的结构，形成密闭空间。118.然后，在该状态下，将热处理炉20控制为规定的温度、气氛，对被处理物wk进行规定时间热处理(st7)。119.在对被处理物wk进行热处理之后，如图9的(a)所示，隔热壁32向上方移动。然后，输送用杆41、42移动，输送用杆41、42的第一端部4111、4211到达热处理炉20内的被处理物wk的下方(st8)。此时，由于支承件412、422处于杆状态a，因此，即使输送用杆41、42的第一端部4111、4211接近被处理物wk，也不会碰到被处理物wk。120.接着，如图9的(b)所示，将支承件412、422从杆状态a切换为杆状态b，将被处理物wk从支承件230～233抬起。然后，通过支承件412、422支承被处理物wk(st9)。121.接着，如图9的(c)所示，通过输送装置50使输送用杆41、42移动，将输送用杆41、42的第一端部4111、4211移动到输送室30内(st10)。由此，将被处理物wk从热处理炉20搬出到输送室30。122.接着，如图9的(d)所示，隔热壁32向下方移动，将输送室30的输送空间300分离为存在输送用杆41、42一侧和与开口201相连的一侧。在该状态下，通过开放投入口39，将被处理物wk取出到热处理装置10的外部(st11)。123.在这样的热处理工序中，热处理炉20与输送室30之间的开口201以及输送室30与外部的开口301对热处理炉20以及输送室30的气氛的维持造成影响。但是，通过具备本实施方式的结构，能够减小开口201以及开口301的开口面积，能够抑制对热处理炉20以及输送室30的气氛的维持造成的影响。即，能够抑制开口201、301对热处理炉20以及输送室30的气氛的维持造成的损失，能够有效地进行热处理炉20以及输送室30的气氛的维持。124.此外，由于被处理物wk在st4中被加热至规定温度为止，之后被支承件230～233支承，所以当被处理物wk被支承件230～233支承时不会产生热冲击。125.(切换支承件的方式的其他例子)126.此外，在上述说明中，示出了通过使输送用杆41、42旋转而使支承件412、422的前端的高度方向(z方向)上的位置变化的方式。但是，通过其他结构，也能够使支承件412、422的前端的高度方向上的位置变化。图11的(a)、图11的(b)是概念性地表示支承件的另一例的图。图11的(a)、图11的(b)是从支承件的第一端部侧观察的图。127.支承件412、422具有图11的(a)所示的从输送用杆41、42的上端突出的杆状态b和图11的(b)所示的收纳在输送用杆41、42内的杆状态a。使支承件412、422从输送用杆41、42的上端突出或者收纳于输送用杆41、42的机构可以是物理地推出或拉入支承件412、422的机构，也可以是使用压缩空气等推出或拉入支承件412、422的机构。另外，也可以是其他机构。即便是这样的结构，也能够起到与使用了上述的使输送用杆41、42旋转的机构的结构相同的作用效果。128.进而，在上述说明中，作为输送用杆，示出了使用一对输送用杆41、42的例子，但上述结构并不限定于此，也可以使用一个输送用杆。此时，能够移动一个输送用杆41，将被处理物wk搬入热处理炉20。129.图12是表示输送用杆的派生例的构成的局部俯视图。例如，如图12所示，只要设为将一个输送用杆41在其前端部分支为二叉状，在该二叉部的一端和另一端分别配置支承件412、422的结构即可。另外，此时，关于支承件412、422的杆状态b和杆状态a的切换，例如，与所述图11的(a)、图11的(b)所示的例子相同，能够将支承件412、422切换成从所述二叉部的一端和另一端突出的杆状态b和收纳在所述二叉部的一端和另一端内的杆状态a。130.此外，在上述说明中，示出了以气氛炉作为热处理炉20的例子，但上述结构并不限定于气氛炉，也能够应用于其他规格的热处理炉。131.(使输送用杆41、42旋转的其他例子)132.在上述的说明中，使用包括致动器602的切换装置60使输送用杆41、42旋转，但是也可以通过使用马达650使输送用杆41、42旋转。133.图13表示了在输送用杆41的第二端部4112设置马达650，在输送用杆42的第二端部4212(参照图7)设置马达651的实施例。马达650和马达651的定子固定于输送装置50，各马达的转子的旋转部分别与第二端部4112和第二端部4212连结。优选马达650和马达651由旋转规定的角度的步进马达构成。此外，马达650和马达651通过图外的控制电路同步，其旋转角度被控制为相同。这样，通过将马达650、651设置在第二端部4112和第二端部4212，使结构简单化。134.(使输送用杆41、42旋转的其他例子)135.图14表示了使输送用杆41、42旋转的又一例。136.在该实施例中，将切换装置60设为包括齿轮齿条机构的结构。切换装置60具有设置在输送用杆41的第二端部4112侧的齿轮齿条机构700以及设置在输送用杆42的第二端部4212侧的齿轮齿条机构800。137.齿轮齿条机构700包括：与输送用杆41的第二端部4112连结的小齿轮702；与小齿轮702啮合的棒状的齿条703；以及使齿条703上下移动的气缸701。同样地，齿轮齿条机构800包括：与输送用杆42的第二端部4212连结的小齿轮802；与小齿轮802啮合的棒状的齿条803；以及使齿条803上下移动的气缸801。此外，设置有用于控制气缸701、801的控制部(未图示)。控制部对气缸701、801进行同步控制，使齿条703和齿条803上下移动相同量。图14的(a)表示了齿条703和齿条803向上方移动而成为杆状态b，图14的(b)表示了从杆状态b起齿条703和齿条803向下方移动而成为杆状态a。138.这样，即使在切换装置60设置齿轮齿条机构，也能够使输送用杆41、42规定旋转相同的角度。139.上述实施方式的说明在所有方面都是例示性的，不应认为是限制性的。本发明的范围不是由上述实施方式的说明来表示，而是由权利要求来表示。进而，本发明包括与权利要求等同的意思以及在权利要求范围内的所有变形。









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