管理方法、测定方法、测定装置、石英晶体振子传感器及套件与流程

测量装置的制造及其应用技术1.本发明涉及一种管理方法、测定方法、测定装置、石英晶体振子传感器及套件。背景技术：2.半导体器件的制造工序中包括光刻工序、蚀刻工序、离子注入工序及剥离工序等各种工序。要求这种半导体器件的制造工序中所使用的显影液、冲洗液、预湿液及剥离液等各种药液为高纯度。3.作为评价高纯度的药液的特性的方法之一，具有通过将高纯度的药液涂布于基板上并且测定基板上的缺陷数来评价其药液的特性的方法。4.例如在专利文献1中，使用表面检查装置(sp-5；kla tencor制造)进行上述评价。5.以往技术文献6.专利文献7.专利文献1：国际公开第2017/169834号技术实现要素：8.发明要解决的技术课题9.另一方面，专利文献1中所记载的使用表面检查装置(sp-5；kla tencor制造)的测定中，测定顺序本身复杂，并且作业时间也长，通用性差。10.因此，在制造药液时，进行上述测定，从工业的观点出发，不优选测定药液的纯度，要求更简便地管理制造的药液的纯度的方法。11.鉴于上述实际情况，本发明的课题在于提供一种更简便地管理包含有机溶剂的药液的纯度的管理方法。12.并且，本发明的课题在于提供一种测定方法、测定装置、石英晶体振子传感器及套件。13.用于解决技术课题的手段14.本发明人等进行了深入研究的结果，发现了能够通过以下的结构解决上述课题。15.(1)一种管理方法，感测包含有机溶剂的药液中的杂质来管理药液的纯度，所述管理方法具有：16.工序1，准备包含有机溶剂的对象药液；17.工序2，使包含吸附杂质的吸附层及石英晶体振子的石英晶体振子传感器与对象药液接触，获得由于与对象药液的接触而引起的石英晶体振子的共振频率的变化量；及18.工序3，比较所获得的共振频率的变化量是否包括在基于预先设定的对象药液的纯度的共振频率的变化量的允许范围内来管理药液的纯度，19.在工序2中，与对象药液接触的接液部的至少一部分由氟系树脂构成。20.(2)根据(1)所述的管理方法，其中，21.将对象药液送液到石英晶体振子传感器，使对象药液与石英晶体振子传感器接触。22.(3)根据(1)或(2)所述的管理方法，其中，23.使对象药液沿单向流向石英晶体振子传感器，使对象药液与石英晶体振子传感器接触。24.(4)根据(1)至(3)中任一项所述的管理方法，其中，25.将对象药液循环而供给到石英晶体振子传感器，对象药液的循环流量为0.01～1000ml/s。26.(5)根据(1)至(4)中任一项所述的管理方法，其中，27.吸附层由si、au、sio2、sioc、cu、co、w、ti、tin、ta、tan及感光性树脂组合物中的至少1个材料构成。28.(6)根据(1)至(5)中任一项所述的管理方法，其中，29.石英晶体振子传感器具有多个吸附层，30.工序2为针对多个吸附层来分别获得共振频率的变化量的工序，31.工序3为计算多个吸附层各自的共振频率的变化量的差分并且比较所获得的值是否包括在基于预先设定的对象药液的纯度的共振频率的变化量的允许范围内来管理药液的纯度的工序。32.(7)根据(6)所述的管理方法，其中，33.多个吸附层中的至少1个为au层。34.(8)一种药液的测定方法，其具有：35.工序1，准备包含有机溶剂的对象药液；及36.工序2，使包含吸附对象药液中的杂质的吸附层及石英晶体振子的石英晶体振子传感器与对象药液接触，获得由于与对象药液的接触而引起的石英晶体振子的共振频率的变化量，37.在工序2中，与对象药液接触的接液部的至少一部分由氟系树脂构成。38.(9)根据(8)所述的测定方法，其中，39.将对象药液送液到石英晶体振子传感器，使对象药液与石英晶体振子传感器接触。40.(10)根据(8)或(9)所述的测定方法，其中，41.使对象药液沿单向流向石英晶体振子传感器，并使对象药液与石英晶体振子传感器接触。42.(11)根据(8)至(10)中任一项所述的测定方法，其中，43.将对象药液循环而供给到石英晶体振子传感器，对象药液的循环流量为0.01～1000ml/s。44.(12)根据(8)至(11)中任一项所述的测定方法，其中，45.吸附层由si、au、sio2、sioc、cu、co、w、ti、tin、ta、tan及感光性树脂组合物中的至少1个材料构成。46.(13)根据(8)至(12)中任一项所述的测定方法，其中，47.石英晶体振子传感器具有多个吸附层，48.工序2为针对多个吸附层来分别获得共振频率的变化量的工序。49.(14)根据(13)所述的测定方法，其中，50.多个吸附层中的至少1个为au层。51.(15)一种测定装置，感测包含有机溶剂的药液中的杂质，所述测定装置具有：52.石英晶体振子传感器，接触包含有机溶剂的对象药液且包含吸附杂质的吸附层及石英晶体振子；53.振荡部，以共振频率使石英晶体振子振动；54.检测部，连接于石英晶体振子传感器，并检测由于与对象药液的接触而引起的石英晶体振子的共振频率的变化量；及55.供给部，将对象药液供给到石英晶体振子传感器，使对象药液与石英晶体振子传感器接触，56.与对象药液接触的接液部的至少一部分由氟系树脂构成。57.(16)根据(15)所述的测定装置，其还具有显示共振频率的变化量的显示部。58.(17)根据(15)或(16)所述的测定装置，其中，59.供给部使对象药液沿单向流动而供给到石英晶体振子传感器。60.(18)根据(15)至(17)中任一项所述的测定装置，其中，61.供给部将对象药液循环而供给到石英晶体振子传感器，对象药液的循环流量为0.01～1000ml/s。62.(19)根据(15)至(18)中任一项所述的测定装置，其中，63.吸附层由si、au、sio2、sioc、cu、co、w、ti、tin、ta、tan及感光性树脂组合物中的至少1个材料构成。64.(20)根据(15)至(19)中任一项所述的测定装置，其中，65.石英晶体振子传感器具有多个吸附层，66.检测部针对多个吸附层来分别检测共振频率的变化量。67.(21)根据(20)所述的测定装置，其中，68.多个吸附层中的至少1个为au层。69.(22)根据(15)至(21)中任一项所述的测定装置，其还具有：70.密封部，配置于石英晶体振子传感器上；71.块体，经由密封部配置于石英晶体振子传感器上，并且设置有将对象药液供给到石英晶体振子传感器的供给通道及从石英晶体振子传感器排出对象药液的排出通道；及72.送液部，由连接于供给通道的第1软管及连接于排出通道的第2软管构成，73.密封部的与对象药液接触的接液部、块体的与对象药液接触的接液部及送液部的与对象药液接触的接液部中的至少1个由氟系树脂构成。74.(23)根据(22)所述的测定装置，其中，75.块体的与对象药液接触的接液部由抗拉强度示出20～60mpa并且肖氏d硬度示出60～80的氟系树脂构成。76.(24)由(22)或(23)所述的测定装置，其中，77.块体的与对象药液接触的接液部由从包括全氟烷氧基烷烃、乙烯四氟乙烯共聚物、全氟乙烯丙烯共聚物、聚三氟氯乙烯及聚偏二氟乙烯的组中选择的氟系树脂构成。78.(25)根据(22)所述的测定装置，其中，79.送液部的与对象药液接触的接液部由具有包含氟原子、碳原子以及除了氟原子及碳原子以外的其他原子的重复单元的氟系树脂构成。80.(26)根据(22)或(25)所述的测定装置，其中，81.送液部的与对象药液接触的接液部由从包括四氟乙烯与六氟丙烯与偏二氟乙烯的三元共聚物、聚偏二氟乙烯、乙烯四氟乙烯共聚物及聚三氟氯乙烯的组中选择的氟系树脂构成。82.(27)根据(22)所述的测定装置，其中，83.密封部的与对象药液接触的接液部由抗拉强度示出20～40mpa、肖氏d硬度示出56～70并且弯曲弹性模量示出0.5～3gpa的氟系树脂构成。84.(28)根据(22)或(27)所述的测定装置，其中，85.密封部的与对象药液接触的接液部由从包括全氟烷氧基烷烃、全氟乙烯丙烯共聚物、乙烯三氟氯乙烯共聚物、乙烯四氟乙烯共聚物、聚三氟氯乙烯及聚偏二氟乙烯的组中选择的氟系树脂构成。86.(29)一种石英晶体振子传感器，其用于(15)至(28)中任一项所述的测定装置，所述石英晶体振子传感器具有石英晶体振子及配置于石英晶体振子上的吸附层，87.吸附层由si、au、sio2、sioc、cu、co、w、ti、tin、ta、tan及感光性树脂组合物中的至少1个材料构成。88.(30)根据(29)所述的石英晶体振子传感器，其中，89.在石英晶体振子上至少配置有2个吸附层。90.(31)根据(30)所述的石英晶体振子传感器，其中，91.多个吸附层中的至少1个为au层。92.(32)一种套件，其具有药液及显示或存储药液的共振频率信息的信息显示部，93.求出通过使药液与包含吸附药液中的杂质的吸附层及石英晶体振子石英晶体振子传感器接触而产生的石英晶体振子的共振频率的变化量，对所获得的共振频率的变化量和基于预先设定的药液的纯度的共振频率的变化量进行比较，给出相对于所获得的共振频率的变化量的、药液的纯度的评价，根据评价将所获得的共振频率的变化量和药液的纯度建立对应关联，记录为药液的共振频率信息，94.药液的共振频率信息为了获得药液的纯度的信息而使用。95.(33)根据(32)所述的套件，其具有存储药液的容器，96.信息显示部设置于容器。97.(34)根据(32)或(33)所述的套件，其中，98.使用字符、符号及条形码中的至少1个，将药液的共振频率信息显示于信息显示部。99.发明效果100.根据本发明，能够提供一种更简便地管理包含有机溶剂的药液的纯度的管理方法。101.并且，根据本发明，能够提供一种测定方法、测定装置、石英晶体振子传感器及套件。附图说明102.图1是表示本发明的实施方式的测定装置的一例的示意图。103.图2是表示本发明的实施方式的石英晶体振子传感器的第1例的示意性剖视图。104.图3是表示杂质量与石英晶体振子的共振频率的关系的校准曲线的一例的图表。105.图4是表示本发明的实施方式的测定装置的流通池单元的一例的示意图。106.图5是表示本发明的实施方式的石英晶体振子传感器的第2例的示意图。107.图6是表示本发明的实施方式的石英晶体振子传感器的第2例的示意性剖视图。108.图7是表示本发明的实施方式的石英晶体振子传感器的第3例的示意图。109.图8是表示本发明的实施方式的石英晶体振子传感器的第3例的示意性剖视图。110.图9是表示本发明的实施方式的套件的一例的示意性立体图。111.图10是表示本发明的实施方式的套件的信息显示部的一例的示意图。112.图11是在将共振频率的变化量设为横轴、将缺陷数设为纵轴的直角坐标上标绘出例a的结果的图表。具体实施方式113.以下，根据附图所示的优选实施方式，对本发明的管理方法、测定方法、测定装置、石英晶体振子传感器及套件进行详细说明。114.另外，以下所说明的图为用于说明本发明的例示图，本发明并无限定于以下所示的图。115.另外，在以下表示数值范围的“～”包括记载于两侧之数值。例如，ε为数值d～数值β是指ε的范围为包含数值d及数值β的范围，并且若以数学符号表示，则为d≤ε≤β。116.[测定装置][0117]图1是表示本发明的实施方式的测定装置的一例的示意图，图2是表示本发明的实施方式的石英晶体振子传感器的第1例的示意性剖视图。[0118]图1所示的测定装置10为感测包含有机溶剂的药液中的杂质的装置。测定装置10能够利用于对象药液的纯度的管理。[0119]测定装置10具有流通池单元12、振荡部14、检测部15、计算部16、存储器18、供给部20及控制部22。测定装置10还具有显示部23、输出部24及输入部25。[0120]控制部22控制流通池单元12、振荡部14、检测部15、计算部16、存储器18及供给部20的动作。并且，控制部22根据显示部23及输出部24的动作的控制以及来自输入部25的输入信息控制测定装置10的各结构部。[0121]流通池单元12具有包含吸附杂质的吸附层34(参考图2)及石英晶体振子27(参考图2)的石英晶体振子传感器26及用于维持供给到流通池单元12的对象药液的液温的温度调节部28。关于流通池单元12，在后面进行详细说明。[0122]振荡部14电连接于石英晶体振子传感器26上。振荡部14以共振频率振动石英晶体振子27。振荡部14将正弦波的高频率信号作为频率信号施加到石英晶体振子传感器26上，且具有振荡电路(未图示)。[0123]并且，检测部15电连接于振荡部14。检测部15测定石英晶体振子27的共振频率并且检测由于与对象药液的接触而引起的石英晶体振子的共振频率的变化量。另外，检测部15也可以检测通过使用后述的多个吸附层来获得的多个共振频率的变化量的差分。[0124]检测部15读入振荡部14的频率信号，例如每1秒钟对频率信号进行采样，作为时序数据存储于存储器18。另外，测定时间及频率允许值存储于存储器18。检测部15根据测定时间及频率允许值测定石英晶体振子27的共振频率并且检测由于与对象药液的接触而引起的石英晶体振子的共振频率的变化量。[0125]测定时间是指为了获得由于杂质与吸附层34接触而引起的共振频率的变化量而所需的时间。测定时间并无特别限定，根据对象药液的供给流量等适当确定，例如优选为10分钟以上，更优选为30分钟以上。上限并无特别限制，但是从生产性的观点出发，优选为3小时以下，更优选为2小时以下。[0126]频率允许值为用于在判断频率是否稳定时判定成为频率的稳定化的指标的值是否成为与稳定化相当的充分小的值的阈值。频率允许值例如为根据所设定的测定灵敏度适当设定的值，例如在共振频率为30mhz的情况下，测定灵敏度为5hz时在测定时间内允许的误差范围例如设定为0.5hz。这相当于0.0167ppm。与该误差范围对应的允许值为1.67×10-8(0.0167ppm)以下。[0127]在检测部15中，例如通过作为公知的电路的频率计数器检测频率。除此以外，例如也可以检测利用如下方法而得的频率，即如日本特开2006-258787号中所记载那样对频率信号进行模拟数字转换，通过载波移动进行处理来产生以频率信号的频率旋转的旋转矢量，求出该旋转矢量的速度。在检测部15中，优选利用这种数字处理，因为频率的检测精度高。[0128]计算部16读取根据存储于存储器18的预先设定的对象药液的纯度的共振频率的变化量的允许范围，对存储于存储器18的共振频率的变化量的允许范围和在检测部15中获得的共振频率的变化量进行比较，管理药液的纯度。例如，通过上述的比较，若在允许范围内，则将药液的纯度在允许范围内的情况显示在显示部23。另一方面，若超出允许范围，则将药液的纯度超出允许范围的情况显示在显示部23。除此以外，若在允许范围内，则可以将药液的纯度在允许范围内的情况输出到输出部24。另一方面，若超出允许范围，则也可以将药液的纯度超出允许范围的情况输出到输出部24。[0129]存储器18存储基于上述预先设定的对象药液的纯度的共振频率的变化量及其允许范围。除此以外，存储器18也可以存储石英晶体振子的共振频率等。如后述，在将多个电极设置于石英晶体振子的结构中，也可以存储每个电极的共振频率及电极之间的共振频率的差分。[0130]另外，关于存储于存储器18的共振频率的变化量，例如如图3所示，求出表示特定的对象药液的杂质量与石英晶体振子27的共振频率的关系的校准曲线l，根据该校准曲线l，能够获得特定的对象药液的杂质量与共振频率的变化量的关系。并且，通过对校准曲线l设定允许范围，能够设定共振频率的变化量的允许范围。图3所示的校准曲线l的杂质量例如为使用表面检查装置测定的杂质量。更具体而言，将规定量的对象药液涂布于规定基板(例如硅晶片)上之后，使用表面检查装置测量涂布有对象药液的基板上的缺陷的数，并且能够将所获得的缺陷数设为杂质量。[0131]另外，作为表面检查装置，可列举如下装置：将激光束照射到涂布有对象药液的基板上，检测通过存在于基板上的缺陷散射的激光束，并且检测存在于基板上的杂质。在照射激光束时，一边旋转基板一边进行测定，由此能够从基板的旋转角度及激光束的半径位置推断出缺陷的座标位置。作为这样的装置，可列举kla tencor制造的“sp-5”，但是除此以外，也可以为具有“sp-5”的分辨率以上的分辨率的表面检查装置(典型的为“sp-5”的后续机器等)。[0132]显示部23显示由计算部16获得的共振频率的变化量，例如由显示器构成。显示器只要能够显示字符及图像，则并无特别限定，可使用液晶显示装置等。并且，显示于显示部23的不限于所获得的共振频率的变化量，可以为共振频率，也可以为如后述通过使用多个吸附层而获得的多个共振频率的变化量的差分，还可以显示由测定装置10设定的各种设定项目及输入信息等。[0133]输出部24将所获得的共振频率的变化量或共振频率等显示于介质。更具体而言，例如使用字符、符号及条形码中的至少1个来显示。输出部24由打印机等构成。通过输出部24能够获得显示有后述套件的药液的共振频率信息的信息显示部。[0134]输入部25为鼠标及键盘等用于通过操作员的指令输入各种信息的各种输入器件。经由输入部25，例如进行测定装置10的设定、从存储器18调用数据等。[0135]另外，输入部25还包括用于输入存储于存储器18的信息的界面，并且信息通过外部存储介质等存储于存储器18。[0136]另外，测定装置10能够获得所获得的共振频率的变化量即可，不一定需要除了获得共振频率的变化量以外的结构。由此，例如，在管理方法中需要计算部16，但是在获得共振频率的变化量的测定装置10中不一定需要计算部16。[0137]流通池单元12为感测包含有机溶剂的药液中的杂质的感测部。流通池单元12使用第1软管29a及第2软管29b连接于供给部20。对象药液通过供给部20在第1软管29a内通过，并且对象药液被供给到石英晶体振子，使对象药液在第2软管29b内通过，并回收对象药液。供给部20不与对象药液接触而使对象药液在第1软管29a内及第2软管29b内通过，例如使用蠕动方式的泵。供给部20只要能够在不与对象药液接触的情况下送液，则并无特别限定，例如能够使用注射泵。[0138]温度调节部28例如具有珀尔帖元件。通过珀尔帖元件维持对象药液的液温。由此，能够恒定保持对象药液的温度，并且能够将对象药液的粘度设为恒定的范围。能够减小纯度的测定条件的变动。另外，只要能够维持对象药液的液温，则温度调节部28的结构并无特别限定。[0139][石英晶体振子传感器][0140]如上所述，石英晶体振子传感器26具有石英晶体振子27，但是石英晶体振子27例如为圆盘状，在石英晶体振子27的表面27a设置有电极30，在背面27b设置有电极31。[0141]在设置于石英晶体振子27的表面27a的电极30的表面30a设置有吸附有杂质的吸附层34。包含有机溶剂的对象药液与吸附层34接触。[0142]作为石英晶体振子27，例如使用at切割型石英晶体振子at切割型石英晶体振子是指从人造石英晶体的z轴以35°15′的角度切出而成的振子。石英晶体振子传感器26不限定于图2所示的结构。[0143]振荡部14与电极30和电极31电连接。振荡部14将正弦波的高频率信号作为频率信号施加于电极30和电极31，例如具有振荡电路。石英晶体振子27通过振荡部14以共振频率振动。作为石英晶体振子27的共振频率，例如为27mhz或30mhz。[0144]吸附层34例如由si、au、sio2、sioc、cu、co、w、ti、tin、ta、tan及感光性树脂组合物中的至少1种材料构成。容易吸附的杂质的种类根据构成吸附层的材料而不同。因此，例如，在通过上述表面检查装置求出对象药液中的杂质量，并将其缺陷数与共振频率的变化量建立对应关联的情况下，涂布有如下药液的基板和吸附层优选由相同的材料构成，所属药夜用于通过表面检查装置测定缺陷数。即，在作为吸附层使用si层时，作为基板优选使用si基板(硅晶片)。[0145]吸附层34能够通过溅射法、cvd(chemical vapor deposition：化学气相沉积)法等气相法或涂布法等形成。[0146]另外，感光性树脂组合物的种类并无特别限制，可列举公知的感光性树脂组合物。作为感光性树脂组合物中所含有的成分，例如可列举具有通过酸的作用产生极性基团的基团的树脂及光产酸剂。上述感光性树脂组合物还可以包含碱性化合物、疏水性树脂等。[0147]在石英晶体振子传感器26中，石英晶体振子27的共振频率通过吸附于吸附层34的杂质的量而变化。通过测定与对象药液接触的前后的共振频率，能够获得共振频率的变化量。另外，石英晶体振子27的共振频率的变化量δf能够由称作sauerbrey式的下述式来表示。在下述式中，f0为共振频率，δm为质量变化量，ρ为石英晶体的密度，μ为石英晶体的剪切应力，a为电极的面积。根据下述式，通过增加石英晶体振子的共振频率f0，能够提高质量检测灵敏度，即能够提高杂质的测定精度。[0148][数式1][0149][0150][流通池单元][0151]图4是表示本发明的实施方式的测定装置的流通池单元的一例的示意图。[0152]在流通池单元12中，例如在温度调节部28上经由密封部43配置有石英晶体振子传感器26。在石英晶体振子传感器26上沿着石英晶体振子27的周围设置有密封部42。在密封部42上配置有块体40。在块体40中设置有将对象药液供给到石英晶体振子传感器26的供给通道40a。供给通道40a连接于第1软管29a。并且，块体40中设置有从石英晶体振子传感器26排出对象药液的排出通道40b。排出通道40b连接于第2软管29b。即，流通池单元12还具有：密封部42，配置于石英晶体振子传感器26上；块体40，经由密封部42配置于石英晶体振子传感器26上，并且设置有将对象药液供给到石英晶体振子传感器26的供给通道40a及从石英晶体振子传感器26排出对象药液的排出通道40b；及送液部，由连接于供给通道40a的第1软管29a及连接于排出通道40b的第2软管29b构成。[0153]向在被石英晶体振子传感器26、密封部42及块体40包围而形成的区域44供给通过第1软管29a和供给通道40a的对象药液。即，在区域44的外侧配置有密封部42。由此，对象药液与石英晶体振子传感器26的石英晶体振子27的电极30的表面30a上的吸附层34接触。并且，对象药液通过排出通道40b和第2软管29b从区域44排出。由第1软管29a及排出通道40b以及第2软管29b及排出通道40b构成循环管路。[0154]第1软管29a及供给通道40a和第2软管29b及排出通道40b中的对象药液的移动如上所述通过供给部20(参考图1)来进行。[0155]例如，密封部42和密封部43的大小相同，例如由o型环构成。另外，对象药液未供给到由石英晶体振子传感器26、密封部43及温度调节部28包围而形成的区域45中。[0156]并且，在流通池单元12中，通过由氟系树脂构成与对象药液接触的接液部的至少一部分，能够抑制向对象药液的溶出得，并且抑制纯度的测定精度的降低，因此而优选。[0157]在测定装置10中，构成如下的区域44的面对应于与对象药液接触的接液部的一部分，所述区域44用于由上述石英晶体振子传感器26、密封部42及块体40包围而形成且将对象药液保持在石英晶体振子传感器26上。除了在区域44以外，在使对象药液与石英晶体振子传感器26接触的供给部中，将对象药液送液到石英晶体振子传感器的送液部中的与对象药液接触的部分也为接液部。优选由氟系树脂构成这些接液部的至少一部分。即，感测包含有机溶剂的药液中的杂质的测定装置(上述具有石英晶体振子传感器的测定装置)中的与对象药液接触的接液部的至少一部分优选由氟系树脂构成。另外，作为上述接液部，优选为除了吸附层及石英晶体振子以外的接液部。作为送液部，可列举沿单向送液的供给管路、将对象药液循环而供给到石英晶体振子传感器的循环管路。[0158]更具体而言，在图4中，接液部为，流通池单元12的块体40的与区域44接触的面40c、将配置于石英晶体振子传感器26上的对象药液留在区域44的密封部42的与区域44接触的部分即面42a、块体40的供给通道40a及块体40的排出通道40b。并且，第1软管29a内及第2软管29b内也为与对象药液接触的接液部，在第1软管29a及第2软管29b中与对象药液接触的部分优选由氟系树脂构成。[0159]其中，与密封部42的对象药液接触的接液部、与块体40的对象药液接触的接液部及与送液部的对象药液接触的接液部的至少一部分优选由氟系树脂构成。[0160]氟系树脂为包含氟原子的树脂即可。[0161]作为氟系树脂，只要为含有氟原子的树脂(聚合物)，则并无特别限制，能够使用公知的氟系树脂。作为氟系树脂，例如可列举聚四氟乙烯(ptfe、抗拉强度：20～35mpa、肖氏d硬度：50～55)、全氟烷氧基烷烃、聚三氟氯乙烯、聚偏二氟乙烯、乙烯四氟乙烯共聚物、乙烯三氟氯乙烯共聚物、全氟乙烯丙烯共聚物、四氟乙烯全氟烷基乙烯醚共聚物及全氟(丁烯乙烯醚)的环化聚合物(cytop(注册商标))等。[0162]其中，在流通池单元12的与块体40的对象药液接触的接液部(与对象药液接触的部分)由氟系树脂构成的情况下，上述氟系树脂的抗拉强度优选为20～60mpa。并且，上述氟系树脂的肖氏d硬度优选为60～80。[0163]作为构成与块体40的对象药液接触的接液部的氟系树脂，优选为全氟烷氧基烷烃(pfa、抗拉强度：25～35mpa、肖氏d硬度：62～66)、乙烯四氟乙烯共聚物(etfe、抗拉强度：38～42mpa、肖氏d硬度：67～78)、全氟乙烯丙烯共聚物(fep、抗拉强度：20～30mpa、肖氏d硬度：60～65)、聚三氟氯乙烯(pctfe、抗拉强度：31～41mpa、肖氏d硬度：75～80)或聚偏二氟乙烯(pvdf、抗拉强度：30～60mpa、肖氏d硬度：64～79)。[0164]另外，抗拉强度的测定方法根据jis k 7161来进行。[0165]肖氏d硬度的测定方法根据jis k 7215来进行。[0166]并且，构成与将对象药液送液到区域44的送液部的对象药液接触的接液部(接触对象药液的部分)的氟系树脂优选具有包含氟原子、碳原子以及除了氟原子及碳原子以外的其他原子的重复单元(以下，也简称为“特定重复单元”。)。作为上述其他原子，例如可列举氢原子及氯原子。即。特定重复单元优选包含氟原子、碳原子以及从包括氢原子及氯原子的组中选择的至少1个其他原子。[0167]作为构成与上述送液部的对象药液接触的部分的氟系树脂，优选为四氟乙烯与六氟丙烯与偏二氟乙烯的三元共聚物(thv软质氟树脂)、聚偏二氟乙烯、乙烯四氟乙烯共聚物或聚三氟氯乙烯。[0168]抗拉强度及肖氏d硬度的测定方法如上所述。[0169]将配置于石英晶体振子传感器26上的对象药液留在区域44的密封部42的与对象药液接触的部分(作为与区域44接触的部分的面42a)优选由氟系树脂构成。[0170]构成上述密封部42的与对象药液接触的部分的氟系树脂的抗拉强度优选为20～40mpa。构成上述密封部42的与对象药液接触的部分的氟系树脂的肖氏d硬度优选为56～70。并且，构成上述密封部42的与对象药液接触的部分的氟系树脂的弯曲弹性模量优选为0.5～3gpa。[0171]在构成上述密封部42的与对象药液接触的部分的氟系树脂满足上述抗拉强度、肖氏d硬度及弯曲弹性模量的情况下，不阻碍石英晶体振子传感器26的振动便能够实施更稳定的测定。[0172]抗拉强度及肖氏d硬度的测定方法如上所述。[0173]弯曲弹性模量的测定方法根据jis k 7171来进行。[0174]作为构成上述密封部42的与对象药液接触的部分的氟系树脂，优选为全氟烷氧基烷烃、全氟乙烯丙烯共聚物、乙烯三氟氯乙烯共聚物、乙烯四氟乙烯共聚物、聚三氟氯乙烯或聚偏二氟乙烯。[0175]供给部20使用第1软管29a和第2软管29b使对象药液循环，但是并不限定于此，可以为使对象药液沿单向流动的方式。此时，例如能够使用注射泵。[0176]在将对象药液循环而供给到石英晶体振子27的情况下，对象药液的循环流量优选为0.01～1000ml/s。若循环流量为0.01～1000ml/s，则能够使检测所需的足够量的杂质附着于吸附层34的表面。[0177]若使对象药液循环1小时时的杂质的上升量为1000质量ppt以下，则纯度的测定精度不会降低，因此而优选。[0178]流通池单元12中的石英晶体振子传感器26的配置并无特别限定。[0179][管理方法][0180]接着，对感测包含有机溶剂的药液中的杂质来管理药液的纯度的管理方法进行说明。[0181]在管理方法中，具有：工序1，准备包含有机溶剂的对象药液；工序2，使(感测包含有机溶剂的药液中的杂质的测定装置中的)包含吸附杂质的吸附层及石英晶体振子的石英晶体振子传感器与对象药液接触，获得由于与对象药液的接触而引起的石英晶体振子的共振频率的变化量；及工序3，比较所获得的共振频率的变化量是否包括在基于预先设定的对象药液的纯度的共振频率的变化量的允许范围内的情况来管理药液的纯度。[0182]如上述测定装置10所示，在工序2中，测定装置10中的与对象药液接触的接液部的至少一部分由氟系树脂构成。[0183]另外，在管理方法中，与上述测定装置相同地，对象药液将对象药液送液到石英晶体振子传感器并使它们接触。通过使对象药液沿单向流动而可以将对象药液附着于石英晶体振子传感器。并且，可以将对象药液循环供给到石英晶体振子，并且将对象药液的循环流量设为0.01～1000ml/s。[0184]以下，以上述图1所示的测定装置10为例，对管理方法更具体地进行说明。在管理方法中，例如循环供给对象药液。[0185]如上所述，准备包含管理纯度的有机溶剂的对象药液(工序1)，并将对象药液存储于测定装置10的供给部20。对象药液中包含杂质。[0186]接着，反复实施如下工序：使对象药液从供给部20朝向流通池单元12通过第1软管29a及块体40的供给通道40a而供给到区域44，并使其通过块体40的排出通道40b及第2软管29b而返回到供给部20，再次通过第1软管29a及块体40的供给通道40a而供给到区域44。由此，将对象药液循环供给到石英晶体振子27，并使其与石英晶体振子27的吸附层34接触。[0187]将正弦波的高频率信号作为频率信号从振荡部14施加到石英晶体振子传感器26，在供给对象药液之前，使石英晶体振子27预先以共振频率振动，并通过检测部15获得供给对象药液之前的共振频率。然后，例如将对象药液供给到石英晶体振子27预定时间之后，通过检测部15获得共振频率，然后获得共振频率的变化量(工序2)。即，通过实施具有工序1及工序2的药液的测定方法，能够获得共振频率的变化量。将通过检测部15获得的共振频率的变化量输出到计算部16上，并存储于计算部16中。[0188]计算部16读取根据存储于存储器18的预先设定的对象药液的纯度的共振频率的变化量的允许范围，对存储于存储器18的共振频率的变化量的允许范围和在检测部15中获得的共振频率的变化量进行比较，且管理药液的纯度(工序3)。例如，通过上述的比较，若在允许范围内，则将药液的纯度在允许范围内的情况显示在显示部23。另一方面，若超出允许范围，则将药液的纯度超出允许范围的情况显示在显示部23。[0189]在管理方法中，能够容易地获得药液的纯度，并且能够根据该所获得的纯度来管理对象药液的纯度。由此，能够管理药液的品质。[0190]另外，存储于存储器18的共振频率的变化量及其允许范围例如如上所述能够根据图3所示的校准曲线l来获得。[0191]另外，上述管理方法优选在无尘室内实施。更具体而言，优选在满足由国际标准化机构所定义的国际标准iso14644-1：2015规定的等级2以上的清洁度的无尘室内实施。[0192][石英晶体振子传感器的其他例][0193]图5是表示本发明的实施方式的石英晶体振子传感器的第2例的示意图，图6是表示本发明的实施方式的石英晶体振子传感器的第2例的示意性剖视图。图7是表示本发明的实施方式的石英品体振子传感器的第3例的示意图，图8是表示本发明的实施方式的石英晶体振子传感器的第3例的示意性剖视图。在图4～图8所示的石英晶体振子传感器26中，对与图2所示的石英晶体振子传感器26相同的结构物标注相同符号，并省略其详细说明。[0194]图2所示的石英晶体振子传感器26为在石英晶体振子27的表面27a设置1个电极30的结构，但是并不限定于此。如图5及图6所示，也可以为在石英晶体振子27的表面27a设置第1电极50及第2电极51的结构。第1电极50和第2电极51例如由矩形导电层构成，隔开间隔彼此平行地配置。第1电极50和第2电极51为彼此电绝缘的状态。在第1电极50的表面50a设置有第1吸附层35，在第2电极51的表面51a设置有第2吸附层36。[0195]第1电极50和电极31电连接于第1振荡单元14a。第2电极51和电极31电连接于第2振荡单元14b。第1振荡单元14a和第2振荡单元14b设置于振荡部14，并且能够彼此独立地将正弦波的高频率信号作为频率信号施加于第1电极50及电极31和第2电极51及电极31，由此，能够使石英晶体振子27以共振频率振动。[0196]并且，第1振荡单元14a和第2振荡单元14b分别电连接于检测部15。检测部15具有切换第1振荡单元14a与第2振荡单元14b的连接的开关部(未图示)。通过开关部，第1振荡单元14a的频率信号和第2振荡单元14b的频率信号交替地读入检测部15。由此，能够通过检测部15彼此独立地获得第1电极50中的共振频率及第2电极51中的共振频率。[0197]在第1电极50的表面50a上的第1吸附层35及第2电极51的表面51a上的第2吸附层36可以相同，也可以彼此不同。在第1吸附层35与第2吸附层36不同的情况下，利用第1电极50和第2电极51的共振频率的差分，并且通过差分是否包括在基于预先设定的对象药液的纯度的共振频率的变化量的允许范围内而能够容易地推断纯度。由此，能够更简便地容易获得药液的纯度，纯度的管理变得容易，并且能够容易地管理药液的品质。优选将第1吸附层35及第2吸附层36中的至少1个设为au层。通过设为au层，能够利用第1电极50和第2电极51中的一个作为基准电极。[0198]并且，如图7及图8所示，可以为在石英晶体振子27的表面27a设置有电极52的结构。电极52具有第1电极部52a、第2电极部52b及通过其中一端连结第1电极部52a和第2电极部52b的连结部52c。第1电极部52a和第2电极部52b例如由矩形导电层构成，隔开间隔彼此平行地配置。第1电极部52a与第2电极部52b电连接。在电极52上设置有吸附层34。[0199]第1电极部52a和电极31电连接于第1振荡单元14a。第2电极部52b和电极31电连接于第2振荡单元14b。第1振荡单元14a和第2振荡单元14b设置于振荡部14，并且能够彼此独立地将正弦波的高频率信号作为频率信号施加于第1电极50及电极31和第2电极51及电极31，由此，能够使石英晶体振子27以共振频率振动。[0200]并且，第1振荡单元14a和第2振荡单元14b分别电连接于检测部15。检测部15具有切换第1振荡单元14a与第2振荡单元14b的连接的开关部(未图示)。通过开关部，第1振荡单元14a的频率信号和第2振荡单元14b的频率信号交替地读入检测部15。由此，通过检测部15能够彼此独立地获得第1电极部52a中的共振频率及第2电极部52b中的共振频率。[0201]在图8所示的石英晶体振子传感器26中，也在第1电极部52a及第2电极部52b上设置有吸附层34，在第1电极部52a和第2电极部52b中可以彼此不同。在不同的情况下，能够通过利用第1电极部52a与第2电极部52b的共振频率的差分来容易地推断纯度。由此，能够更简便地容易获得药液的纯度，纯度的管理变得容易，并且能够容易地管理药液的品质。优选在第1电极部52a及第2电极部52b中的至少1个上形成au层。通过形成au层，能够利用第1电极部52a和第2电极部52b中的一个作为基准电极。[0202][套件][0203]作为表示药液的品质的方法，相对应地显示通过上述测定装置10等测定的纯度及药液，由此能够容易地管理药液的品质。将对应这样的药液及药液的纯度的称为套件。[0204]套件具有药液及显示或存储药液的共振频率信息的信息显示部。通过使药液与包含吸附药液中的杂质的吸附层及石英晶体振子的石英晶体振子传感器接触，求出石英晶体振子的共振频率的变化量，对所获得的共振频率的变化量和根据预先设定的药液的纯度的共振频率的变化量进行比较，给出相对于所获得的共振频率的变化量的、药液的纯度的评价。根据评价将所获得的共振频率的变化量和药液的纯度建立对应关联并且记录为药液的共振频率信息的药液的共振频率信息用于获得药液的纯度的信息。能够通过药液的共振频率信息来获得药液的纯度的信息。[0205]另外，上述的评价是通过使用上述测定装置10测定药液的纯度而给出的。[0206]以下，更具体地对套件进行说明。图9是表示本发明的实施方式的套件的一例的示意性立体图，图10是表示本发明的实施方式的套件的信息显示部的一例的示意图。[0207]如图9所示，套件60例如具有将药液62存储于内部64a的容器64。容器64例如为圆筒状，在侧面64b设置有信息显示部66。另外，信息显示部66也可以设置于上面64c。信息显示部66显示或存储药液的共振频率信息。[0208]作为信息显示部66，例如如图10所示，使用字符表示药液的共振频率信息。然而，并不限定于此，使用字符、符号及条形码中的至少1个，能够将药液的共振频率信息显示于信息显示部66。条形码并无特别限定，也可以为二维码。[0209]作为信息显示部66，并不限定于如图10所示的基于字符的显示，例如也可以为如ic(integrated circuit，集成电路)标签的信息记录介质。在ic标签的情况下，药液的共振频率信息能够使用ic标签读取器以非接触方式进行读取。通过将信息显示部66设为条形码或ic标签，例如能够使用读取机来管理药液的品质。[0210]通过输出部24显示药液的共振频率信息的信息显示部66能够通过测定装置10的输出部24来获得。[0211]本发明的管理方法、测定方法、测定装置、石英晶体振子传感器及套件基本上如以上构成。以上，对本发明的管理方法、测定方法、测定装置、石英晶体振子传感器及套件进行了详细说明，但是本发明并不限定于上述实施方式，在不脱离本发明的主旨的范围内，当然也可以进行各种改善或变更。[0212]本发明中所使用的对象药液(以下，也简称为“药液”。)包含有机溶剂。[0213]在本说明书中，有机溶剂是指，相对于上述药液的总质量以超过10000质量ppm的含量含有每1种成分的液状有机化合物。即，在本说明书中，相对于上述药液的总质量含有超过10000质量ppm的液状有机化合物相当于有机溶剂。[0214]并且，在本说明书中，液状是指在25℃、大气压下为液体。[0215]作为药液中的有机溶剂的含量并无特别限制，但是相对于药液的总质量优选为98.0质量％以上，更优选为超过99.0质量％，进一步优选为99.90质量％以上，尤其优选为超过99.95质量％。上限小于100质量％。[0216]有机溶剂可以单独使用1种，也可以使用2种以上。在使用2种以上的有机溶剂的情况下，优选为合计含量在上述范围内。[0217]作为有机溶剂的种类并无特别限制，能够使用公知的有机溶剂。有机溶剂例如可例举亚烷基二醇单烷基醚羧酸酯、亚烷基二醇单烷基醚、乳酸烷基酯、烷氧基丙酸烷基酯、环状内酯(优选为碳原子数4～10)、也可以具有环的单酮化合物(优选为碳原子数4～10)、碳酸亚烃酯、烷氧基乙酸烷基酯、丙酮酸烷基酯、二烷基亚砜、环状磺酸、二烷基醚、一元醇、二醇、乙酸烷基酯及n-烷基吡咯烷酮等。[0218]有机溶剂例如优选为从包括丙二醇单甲醚乙酸酯(pgmea)、丙二醇单甲醚(pgme)、环己酮(chn)、乳酸乙酯(el)、碳酸丙烯酯(pc)、异丙醇(ipa)、4-甲基-2-戊醇(mibc)、乙酸丁酯(nba)、丙二醇单乙基醚、丙二醇单丙醚、甲氧基丙酸甲酯、环戊酮、γ-丁内酯、二异戊醚、乙酸异戊酯、二甲基亚砜、n-甲基吡咯烷酮、二乙二醇、乙二醇、二丙二醇、丙二醇、碳酸亚乙酯、环丁砜、环庚酮及2-庚酮的组中选择的1种以上。[0219]作为使用2种以上有机溶剂的例，可列举pgmea与pgme的同时使用及pgmea与pc的同时使用。[0220]另外，药液中的有机溶剂的种类及含量能够使用气相色谱分析仪来测定。[0221]药液除了有机溶剂以外，有时包含杂质。如上述那样，通过杂质吸附于吸附层来改变共振频率。[0222]作为杂质，可列举金属杂质及有机杂质。[0223]金属杂质是指作为金属离子及固体(金属单体、含粒子状金属的化合物等)包含于药液中的金属杂质。[0224]金属杂质中所包含的金属的种类并无特别限制，例如可列举na(钠)、k(钾)、ca(钙)、fe(铁)、cu(铜)、mg(镁)、mn(锰)、li(锂)、al(铝)、cr(铬)、si(镍)、ti(钛)及zn(锆)。[0225]金属杂质可以为不可避免地包含在药液中所包含的各成分(原料)的成分，也可以为药液的制造、存储和/或移送时不可避免地包含的成分，还可以有意添加。[0226]在药液包含金属杂质的情况下，其含量并无特别限制，可列举相对于药液的总质量为0.01～500质量ppt。[0227]在本说明书中，有机杂质为与作为药液中所包含的主成分的有机溶剂不同的化合物，且为相对于上述药液的总质量以10000质量ppm以下含量包含的有机物。即，在本说明书中，相对于上述药液的总质量以10000质量ppm以下含量包含的有机物相当于有机杂质，而不相当于有机溶剂。[0228]另外，在由多种化合物构成的有机杂质包含于药液的情况下，若各化合物相当于以上述的10000质量ppm以下含量含有的有机物，则分别相当于有机杂质。[0229]另外，水不包含在有机杂质中。[0230]有机杂质可以添加到药液中，也可以在药液的制造工序中不可避免地混合到药液中。作为在药液的制造工序中不可避免地混合的情况下，例如可列举有机杂质包含于用于药液的制造的原料(例如有机溶剂)中的情况及在药液的制造工序中混合(例如污染物)的情况等，但是并无限于上述。[0231]上述药液中的有机杂质的合计含量并无特别限制，但是可列举相对于药液的总质量为0.1～5000质量ppm。[0232]有机杂质可以单独使用1种，也可以同时使用2种以上。在同时使用2种以上的有机杂质的情况下，优选为合计含量在上述范围内。[0233]作为有机杂质，例如可列举二丁基羟基甲苯(bht)、硫代二丙酸二硬脂醇酯(dstp)、4，4’‑亚丁基双-(6-叔丁基-3-甲基苯酚)、2，2’‑亚甲基双-(4-乙基-6-叔丁基苯酚)及日本特开2015-200775号公报中所记载的抗氧化剂等抗氧化剂；未反应的原料；制造有机溶剂时所产生的结构异构体及副产物；来自构成有机溶剂的制造装置的构件等的溶出物(例如，从o型环等橡胶构件溶出的增塑剂)；等。[0234]药液可以包含水。水的种类并无特别限制，例如能够使用蒸馏水、离子交换水及纯水。[0235]水可以添加到药液中，也可以在药液的制造工序中不可避免地混合到药液中。作为在药液的制造工序中不可避免地混合的情况下，例如可列举水包含于用于药液的制造的原料(例如有机溶剂)中的情况及在药液的制造工序中混合(例如污染物)的情况等。[0236]药液中的水的含量并无特别限制，但是通常相对于药液的总质量优选为2.0质量％以下，更优选为1.0质量％以下，进一步优选为小于0.5质量％。[0237]若药液中的水的含量为1.0质量％以下，则半导体芯片的制造产率更优异。[0238]另外，下限并无特别限制，但是多为0.01质量％左右。制造上，很难将水的含量设为上述以下。[0239]准备上述药液的方法并无特别限制，例如可列举通过购入等采购有机溶剂及使原料进行反应来获得有机溶剂等的方法。另外，作为药液，优选准备已说明的杂质的含量少的药液(例如，有机溶剂的含量为99质量％以上的药液)。作为该种有机溶剂的市售品，例如可列举称为“高纯度等级品”的产品。[0240]另外，根据需要，也可以对药液实施纯化处理。[0241]作为纯化方法，例如可列举蒸馏及过滤。[0242]实施例[0243]以下，根据实施例对本发明进行进一步详细的说明。以下实施例所示的材料、使用量、比率、处理内容及处理顺序等，只要不脱离本发明的主旨便能够适当地变更。因此，本发明的范围不应被以下所示的实施例限定地解释。[0244]《例a》[0245][药液的制造][0246]首先，准备了后述的例中所使用的药液。具体而言，首先，购入了纯度99质量％以上的高纯度等级的有机溶剂试剂。之后，对所购入的试剂实施适当组合以下过滤器的过滤处理，分别制备了杂质量不同的药液(a1～a20、b1～b7、c1～c5、d1～d5、e1～e7)。[0247]·iex-ptfe(15nm)：entegris，inc.制造的15nm iex ptfe[0248]·ptee(12nm)：entegris，inc.制造的12nm ptfe[0249]·upe(3nm)：entegris，inc.制造的3nm pe过滤器[0250]另外，为了调节后述的药液中的杂质量，适当变更有机溶剂试剂的购买地点或者变更纯度等级或者在上述过滤处理之前实施蒸馏处理。[0251][使用石英晶体振子传感器的评价(其1)][0252]准备在电极部上作为吸附层形成有si层的石英晶体振子传感器(参考图2)，经60分钟将上述石英晶体振子传感器浸渍于后述的表1所示的药液中，求出了最终的石英晶体振子的共振频率的变化量(hz)。另外，浸渍于药液之前的石英晶体振子的共振频率为27mhz。[0253]将结果总括示于表1中。[0254][使用表面检查装置的评价(其1)][0255]首先，准备了直径约为300mm(12英时)的硅品片。[0256]接着，使用表面检查装置(sp-5；kla tencor制造)，测量了存在于上述硅晶片上的缺陷的数(将其设为初始值。)。[0257]接着，使用tokyo electron limited制造“clean track lithius(产品名)”，将各药液以1500rpm旋转涂布于硅晶片上，之后，旋转干燥了硅晶片。[0258]接着，使用上述表面检查装置，测量了存在于药液涂布之后的硅晶片的缺陷的数(将其设为测量值。)。接着，计算初始值与测量值之差(测量值-初始值)，设为缺陷数。该缺陷数表示硅晶片上所残留的药液的杂质的量，数值越小药液中的杂质量越少。[0259]将结果总括示于表1中。[0260]另外，在满足由国际标准化组织定义的国际标准iso14644-1：由2015定义的等级2以上的清洁度的无尘室中进行上述评价。[0261]在表1中，“药液”栏表示各例中所使用的药液，例如在例1中使用包含nba(乙酸丁酯)的药液a1～a20，在药液a1～a20中杂质的量不同。[0262]表1中的药液的符号表示以下药液。[0263]nba：乙酸丁酯[0264]mibc：4-甲基-2-戊醇[0265]pgmea：丙二醇单甲醚乙酸酯[0266]ipa：异丙醇[0267]chn：环己酮[0268][表1][0269][0270]如表1所示，共振频率的变化量与缺陷数具有相关性，在共振频率的变化量较大的情况下，具有缺陷数变大的倾向。[0271]并且，如图3所示，将共振频率的变化量设为横轴、将缺陷数设为纵轴的直角坐标中标绘关于例1～5的所有药液的共振频率的变化量(石英晶体振子传感器评价(共振频率变化量(hz)))及缺陷数(表面检查装置评价(缺陷数))的点，通过最小平方法作成通过所标绘的点的校准曲线，计算确定系数(r2)，其结果计算为0.8004(参考图11)。确定系数越接近1.000，越符合优异的结果，但是表1的结果示出共振频率的变化量与缺陷数之间的相关性高。[0272]并且，实施[使用石英晶体振子传感器的评价(其1)]时，在满足由国际标准化组织定义的国际标准iso14644-1：由2015定义的等级2以上的清洁度的无尘室中进行及将药液的温度调解为23℃实施评价，除此以外，按照与上述例1～5相同的顺序测定了共振频率的变化量。[0273]表2中示出所获得的共振频率的变化量的结果及在上述中获得的[使用表面检查装置的评价]。[0274][表2][0275][0276]在将共振频率的变化量设为横轴、将缺陷数设为纵轴的直角坐标中标绘关于例6～10的所有药液的共振频率的变化量(石英晶体振子传感器评价(共振频率变化量(hz)))及缺陷数(表面检查装置评价(缺陷数))的点，通过最小平方法作成通过所标绘的点的校准曲线，计算确定系数(r2)，其结果计算为0.9626。表2的结果比表1的结果更优异。[0277]《例b》[0278]按照与上述例a相同的顺序，准备了各例中所使用的药液(a21～a40、b8～b14、c6～c10、d6～d10、e8～e14)。另外，各药液中的杂质量不同。关于药液中的杂质浓度，通过lc/ms获得去除药液的主药液的所有成分的峰值作为积分值，以正己烷换算而获得其浓度。[0279][使用石英晶体振子传感器的评价(其2)][0280]准备图2所示的吸附层为表3所示的各层(si层、sio2层、sioc层、cu层、co层、ti层、w层、tin层、ta层、tan层)的石英晶体振子传感器，使用具有上述石英晶体振子传感器的具有图4所示的流通池单元的测定装置(参考图1)，使各药液(a21～a40、b8～b14、c6～c10、d6～d10、e8～e14)与石英晶体振子传感器接触，实施了石英晶体振子的共振频率的变化量的评价。具体而言，通过温度调节部进行调节，以使药液温度成为23℃，获得了在流通池单元中经60分钟将各药液以循环流量20ml/s进行循环时的石英晶体振子的共振频率的变化量(hz)。另外，与药液接触之前的石英晶体振子的共振频率为27mhz。[0281]将结果总括示于表3～7中。[0282]另外，在满足由国际标准化组织定义的国际标准iso14644-1：由2015定义的等级2以上的清洁度的无尘室中进行上述评价。[0283]并且，上述共振频率的测定装置中的流通池单元的各构件的接液部(块体的接液部、密封部的接液部、送液部的接液部)由与后述的例24相同的氟系树脂构成。[0284][使用表面检查装置的评价(其2)][0285]首先，准备了各种基板(si基板、sio2基板、sioc基板、cu基板、co基板、ti基板、w基板、tin基板、ta基板、tan基板)。[0286]接着，使用晶圆上表面检查装置(sp-5；kla tencor制造)，测量了存在于各基版上的缺陷的数(将其设为初始值。)。[0287]接着，使用tokyo flectron limited制造“clean track lithius(产品名)”，将各药液(a21～a40、b8～b14、c6～c10、d6～d10、e8～e14)以1500rpm旋转涂布于基板上，之后，旋转干燥了基板。[0288]接着，使用上述装置(sp-5)，测量了存在于药液涂布之后的基板的缺陷的数(将其设为测量值。)。接着，计算初始值与测量值之差(测量值-初始值)，设为缺陷数。[0289]将结果总括示于表3～7中。[0290]另外，在满足由国际标准化组织定义的国际标准iso14644-1：由2015定义的等级2以上的清洁度的无尘室中进行上述评价。[0291]在表3～7中，并排示出使用了同种金属类型的吸附层及基板的结果。例如，表3中的“si”栏中，示出作为吸附层使用“si层”的[使用石英晶体振子传感器的评价(其2)]的结果及使用si基板的[使用表面检查装置的评价(其2)]的结果。[0292][表3][0293][0294][表4][0295][0296][表5][0297][0298][表6][0299][0300][表7][0301][0302]如上述表所示，在使用由相同种类的金属类型构成的吸附层及基板的情况下，共振频率的变化量与缺陷数的相关性较高，在共振频率的变化量较大的情况下，具有缺陷数变大的倾向。[0303]《例c》[0304]代替si层使用了au层，除此以外，按照与[使用石英晶体振子传感器的评价(其2)]相同的顺序测定了共振频率的变化量。[0305]接着，从使用si层所获得的共振频率的变化量减去使用au层所获得的共振频率的变化量，求出了差分。[0306]将结果示于表8中。[0307]在表8中，“si层-au层”栏表示从“si层”栏的“石英晶体振子传感器评价(共振频率变化量(hz))”减去“au层”栏的“石英晶体振子传感器评价(共振频率变化量(hz))”的差分。[0308][表8][0309][0310]将共振频率的变化量设为横轴、将缺陷数设为纵轴的直角坐标上标绘关于例16～20的“si层”栏的共振频率的变化量(石英晶体振子传感器评价(共振频率变化量(hz)))及缺陷数(表面检查装置评价(缺陷数))的点，通过最小平方法作成通过所标绘的点的校准曲线，计算确定系数(r2)，其结果计算为0.9915。[0311]并且，标绘关于例16～20的“si层-au层”栏的共振频率的变化量的差分及“si层”栏的缺陷数(表面检查装置评价(缺陷数))的点，通过最小平方法作成通过所标绘的点的校准曲线，计算确定系数(r2)，其结果计算为0.996。[0312]由上述结果确认到，在将au层用作参考的情况下，共振频率的变化量与缺陷数的相关性更高。[0313]《例d》[0314]按照与上述例a相同的顺序，准备了各例中所使用的药液(a41～a140)。[0315]准备图2所示的吸附层为si层的石英晶体振子传感器，使用具有上述石英品体振子传感器的具有图4所示的流通池单元的测定装置(参考图1)，使药液(a41～a140)与石英晶体振子传感器接触，实施了石英晶体振子的共振频率的变化量的评价。具体而言，通过温度调节部进行调节，以使药液温度成为23℃，获得了在流通池单元中经60分钟将各药液以循环流量20ml/s进行循环时的石英晶体振子的共振频率的变化量(hz)。另外，与药液接触之前的石英晶体振子的共振频率为27mhz。[0316]另外，在所使用的测定装置中，接液部的至少一部分由氟系树脂构成。[0317]具体而言，在流通池单元的图4所示的块体的接液部(与对象药液接触的部分)由全氟乙烯丙烯共聚物(fep、抗拉强度：20～30mpa、肖氏d硬度：60～65、弯曲弹性模量：0.55～0.67gpa)构成的情况下，将表9～10中的“流通池”栏标记为“有”，在未由氟系树脂构成的情况下标记为“‑”。[0318]并且，在送液部的接液部(与对象药液接触的部分)由thv软质氟树脂构成的情况下，将表9～10中的“送液部”栏标记为“有”，在未由氟系树脂构成的情况下标记为“‑”。[0319]并且，在图4所示的将对象药液保留于区域的密封部的接液部(与对象药液接触的部分)由聚偏二氟乙烯(pvdf、抗拉强度：30～60mpa、肖氏d硬度：64～79)构成的情况下，将表9～10中的“密封部a”栏标记为“有”，在未由上述氟系树脂构成的情况下标记为“‑”。[0320]另外，在图4所示的将对象药液保留于区域的密封部的接液部(与对象药液接触的部分)由全氟烷氧基烷烃(pfa、抗拉强度：25～35mpa、肖氏d硬度：62～66)构成的情况下，将表9～10中的“密封部b”栏标记为“有”，在上述密封部的接液部未由氟系树脂构成的情况下标记为“‑”。[0321]并且，测定上述共振频率的变化量时，使用lc/ms(thermo lc/ms qe plus)测定了从测定装置溶出于对象药液中的杂质量。[0322][表9][0323][0324][表10][0325][0326]如上述表9及10所示，在测定装置中的与对象药液的接液部的至少一部分由氟系树脂构成的例21～24中，确认到与未使用氟系树脂的例25相比，从测定装置溶出的杂质的量较少，其结果，共振频率的变化量与缺陷数的相关性更高。[0327]将共振频率的变化量设为横轴、将缺陷数设为纵轴的直角坐标上标绘关于例21的共振频率的变化量(石英晶体振子传感器评价(共振频率变化量(hz)))及缺陷数(表面检查装置评价(缺陷数))的点，通过最小平方法作成通过所标绘的点的校准曲线，计算确定系数(r2)，其结果计算为0.7318。还对例22～25计算确定系数，其结果分别计算为0.8086、0.9843、0.9936、0.3297。由该结果确认到，相对于测定装置的接液部未由氟系树脂构成的例25，接液部的至少一部分由氟系树脂构成的例21～24显示更优异的相关性。[0328]在例23中，在将构成上述流通池单元的图4所示的块体的接液部(与对象药液接触的部分)的树脂，从全氟乙烯丙烯共聚物变更为全氟烷氧基烷烃、乙烯四氟乙烯共聚物、全氟乙烯丙烯共聚物、聚三氟氯乙烯或聚偏二氟乙烯的情况下，均能够确认到显示相关系数超过0.95的相关性。然而，该等结果比例23的结果(0.984)的结果稍差。[0329]并且，在例23中，在将构成送液部的接液部(与对象药液接触的部分)的树脂，从thv软质氟树脂变更为聚偏二氟乙烯、乙烯四氟乙烯共聚物或聚三氟氯乙烯的情况下，均能够确认到显示相关系数超过0.95的相关性。然而，该等结果比例23的结果(0.984)的结果稍差。[0330]并且，在例23中，将图4所示的构成将对象药液保留于区域的密封部的接液部(与对象药液接触的部分)的树脂，从聚偏二氟乙烯变更为全氟乙烯丙烯共聚物、乙烯三氟氯乙烯共聚物、乙烯四氟乙烯共聚物或聚三氟氯乙烯的情况下，均能够确认到显示相关系数超过0.95的相关性。然而，该等结果比例23的结果(0.984)的结果稍差。[0331]并且，在例23中，在将构成上述流通池单元的图4所示的块体的接液部(与对象药液接触的部分)的树脂、构成送液部的接液部(与对象药液接触的部分)的树脂及图4所示的构成将对象药液保留于区域的密封部的接液部(与对象药液接触的部分)的树脂中的任一个变更为聚四氟乙烯的情况下，获得了相关系数超过0.85且小于0.95的值。由该等结果能够确认到，获得比用作由除了上述的聚四氟乙烯以外的其他氟系树脂构成接液部的树脂的情况更优异的效果。[0332]另外，在将构成上述流通池单元的图4所示的块体的接液部(与对象药液接触的部分)的树脂、构成送液部的接液部(与对象药液接触的部分)的树脂及图4所示的构成将对象药液保留于区域的密封部的接液部(与对象药液接触的部分)的树脂中的所有树脂设为聚四氟乙烯的情况下，比例22优异，但是成为0.85以下相关系数。[0333]《例e》[0334][药液的制造][0335]购入纯度99质量％以上的高纯度等级的nba，适当组合以下过滤器实施过滤处理，制备了2种杂质量不同的药液(药液x及药液y)。[0336]·iex-ptfe(15nm)：entegris，inc.制造的15nm iex ptfe[0337]·ptee(12nm)：entegris，inc.制造的12nm ptfe[0338]·upe(3nm)：entegris，inc.制造的3nm pe过滤器[0339]接着，在上述《例d》中，由将通过例24的共振频率的变化量(石英晶体振子传感器评价(共振频率变化量(hz)))及缺陷数(表面检查装置评价(缺陷数))的结果求出的共振频率的变化量设为横轴、将缺陷数设为纵轴的直角坐标的数据，将共振频率的变化量为2000hz以下的情况设定为允许范围。[0340]接着，使用上述药液x及药液y，按照与例24相同的顺序，求出了“石英晶体振子传感器评价(共振频率变化量(hz))”。[0341]之后，将在上述中预先设定的共振频率的变化量的允许范围(2000hz以下)设定于测定装置的存储器，由计算部判断使用药液x及药液y所获得的共振频率的变化量是否在上述允许范围，其结果，药液x在允许范围内，药液y在允许范围外。[0342]使用该药液x及药液y，实施了在《例a》中实施的[使用表面检查装置的评价(其1)]，其结果确认到，药液x的缺陷数为20以下左右且缺陷数少，相对于此，药液y的缺陷数超过20且缺陷数多。从该结果也可确认到，能够通过测定药液的共振频率的变化量来管理其药液的纯度。[0343]符号说明[0344]10-测定装置，12-流通池单元，14-振荡部，14a-第1振荡单元，14b-第2振荡单元，15-检测部，16-计算部，20-供给部，18-存储器，22-控制部，26-石英晶体振子传感器，27-石英晶体振子，27a-表面，27b-背面，28-温度调节部，29a-第1软管，29b-第2软管，30-电极，30a-表面，31-电极，34-吸附层，40-块体，40a-供给通道，40b-排出通道，40c，42a-面，42，43-密封部，44-区域，45-区域，50-第1电极，51-第2电极，52-电极，52a-第1电极部，52b-第2电极部，52c-连结部，60-套件，62-药液，64-容器，64a-内部，64b-侧面，64c-上面，66-信息显示部。









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