一种显示面板及显示装置的制作方法

电气元件制品的制造及其应用技术1.本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示装置。背景技术：2.随着显示技术的发展，用户对显示屏的屏占比的要求越来越高，目前，为实现全面屏，一般会在显示区设置器件容纳孔，以安装摄像头、传感器或听筒等功能元件，但是在显示区中设置器件容纳孔会存在一定的封装失效风险，环境中的水氧会通过封装失效部分进入显示区内，进而影响显示面板的显示效果。技术实现要素：3.本发明实施例提供一种显示面板及显示装置，以实现通过设置阻挡结构，控制基底的刻蚀程度，保证隔离槽处的封装效果，提高水氧阻隔效果，进而保证显示面板的显示效果。4.第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：5.基底，包括开口区、至少部分围绕开口区设置的隔断区以及部分围绕隔断区设置的显示区；6.至少一个隔离槽，设置在基底中并位于隔断区；7.显示元件层，显示元件层设置在基底上，显示元件层包括至少一个有机材料层，有机材料层被隔离槽断开；8.阻挡结构，设置在基底中且沿第一方向，阻挡结构与隔离槽的侧壁至少部分交叠，其中，第一方向为显示区指向开口区的方向。9.第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括第一方面任意一项所述的显示面板。10.本发明提供一种显示面板及显示装置，显示面板包括设置在基底中并位于隔断区的至少一个隔离槽以及沿第一方向，设置阻挡结构与隔离槽的侧壁至少部分交叠，通过设计阻挡结构，控制在基底上刻蚀得到的隔离槽的位置和尺寸，无需通过工艺和不同材质的刻蚀选择比来实现隔离槽，可实现隔离槽的精确控制，进而提高隔离槽处的封装效果，进而降低水氧侵蚀的风险，提高显示面板的显示效果。附图说明11.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图做一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图虽然是本发明的一些具体的实施例，对于本领域的技术人员来说，可以根据本发明的各种实施例所揭示和提示的器件结构，驱动方法和制造方法的基本概念，拓展和延伸到其它的结构和附图，毋庸置疑这些都应该是在本发明的权利要求范围之内。12.图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；13.图2为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；14.图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；15.图4为本发明实施例提供的一种隔离槽的结构示意图；16.图5为本发明实施例提供的一种隔离槽的结构示意图；17.图6为本发明实施例提供的一种隔离槽的结构示意图；18.图7为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；19.图8为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图；20.图9为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图；21.图10为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图；22.图11为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图；23.图12为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图；24.图13为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图；25.图14为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图；26.图15为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。具体实施方式27.为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，以下将参照本发明实施例中的附图，通过实施方式清楚、完整地描述本发明的技术方案，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例所揭示和提示的基本概念，本领域的技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。28.显示面板存在围绕显示区设置的开口区，开口区用于容纳功能元件，由于开口区容易受到外界水氧的侵蚀，通常在开口区与显示区之间设置隔离槽，并利用封装层对隔离槽进行填充，以增加水氧侵蚀的路径，但是由于隔离槽处封装效果容易存在封装失效的风险，进而造成水氧会通过封装失效部分进入显示区内，进而影响显示面板的显示效果。29.有鉴于背景技术的问题，本发明实施例提供一种显示面板，包括：基底，包括开口区、至少部分围绕开口区设置的隔断区以及部分围绕隔断区设置的显示区；至少一个隔离槽，设置在基底中并位于隔断区；显示元件层，显示元件层设置在基底上，显示元件层包括至少一个有机材料层，有机材料层被隔离槽断开；阻挡结构，阻挡结构位于隔离槽内，沿第一方向，阻挡结构与隔离槽的侧壁至少部分交叠，其中，第一方向为显示区指向开口区的方向。通过合理设置阻挡结构，阻挡结构与隔离槽的侧壁至少部分交叠，控制在基底上刻蚀得到的隔离槽的位置和尺寸，无需通过工艺和不同材质的刻蚀选择比来实现隔离槽，可实现隔离槽的精确控制，进而提高隔离槽处的封装效果，降低水氧侵蚀的风险，提高显示面板的显示效果。30.以上是本发明的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。31.图1为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图，图2为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，如图1和图2所示，显示面板100包括：基底101，包括开口区102、至少部分围绕开口区102设置的隔断区103以及部分围绕隔断区103设置的显示区104；至少一个隔离槽105，设置在基底101中并位于隔断区103；显示元件层106，显示元件层106设置在基底101上，显示元件层106包括至少一个有机材料层1061，有机材料层1061被隔离槽105断开；阻挡结构107，阻挡结构107设置在基底101中且沿第一方向(如图中所示x方向)，阻挡结构107与隔离槽105的侧壁至少部分交叠，其中，第一方向为显示区104指向开口区102的方向。32.其中，基底101可以包括顺序堆叠的柔性基底和无机层，基底101可以包括柔性基底、无机层、柔性基底和无机层的叠层结构，基底101也可以包括柔性基底、无机层、柔性基底、无机层、柔性基底和无机层的叠层结构，基底101中柔性基底和无机层的数量和材料可以根据实际设计需求进行选择，本发明实施例不做具体限定。基底101上包括开口区102，开口区102内设置有安装孔，用于安装摄像头、传感器或听筒等功能元件，以提高屏占比，提高使用者的视觉享受。隔断区103至少部分围绕开口区102设置，且至少部分显示区104围绕隔断区103，为保证良好的水氧阻隔效果，使得隔断区103环绕开口区102设置，且显示区104环绕隔断区103设置，隔断区103的存在增加开口区102处水氧侵蚀的路径，降低水氧进入显示区104的几率，保证显示区104的显示效果。在隔断区103设置至少一个隔离槽105，隔离槽105形成于基底101中的柔性基底上，隔离槽105可以为环形凹槽，隔离槽105可以为圆环形凹槽，隔离槽105围绕开口区102设置，隔断开口区102与显示区104之间的有机发光材料层，进而隔断水氧入侵显示区104的通道，提高显示面板100的使用寿命和显示效果。在基底101上还设置有显示元件层106，显示元件层106包括至少一个有机材料层1061，有机材料层1061包括空穴传输层、空穴注入层、电子注入层和电子传输层中的至少一种，有机材料层1061被隔离槽105断开，避免水氧沿着有机发光层入侵中显示面板100的显示区104，影响显示面板100的稳定性。在基底101中形成阻挡结构107，阻挡结构107为无机材料或是金属材料，由于阻挡结构107的存在，且阻挡结构107和基底101的材质不同，使得在对基底101进行沿第一方向刻蚀时，阻挡结构107不易被刻蚀，进而阻挡结构107限制了隔离槽105在第一方向上的延伸宽度，通过控制刻蚀时间和刻蚀速率，可以控制隔离槽105在沿垂直于基底101的方向上的刻蚀深度，因此沿第一方向，阻挡结构107与隔离槽105的侧壁至少部分交叠，合理设置隔离槽105的尺寸，使得有机材料层1061在隔离槽105处断开，同时在后续的封装过程中，通过控制隔离槽105在第一方向的延伸宽度控制，使得隔离槽105处具备良好的封装效果，降低水氧侵蚀的几率，保证显示区104的正常显示。33.本发明实施例通过合理设置阻挡结构，使阻挡结构与隔离槽的侧壁至少部分交叠，进而控制在基底上刻蚀得到的隔离槽的位置和尺寸，无需通过工艺和不同材质的刻蚀选择比来实现隔离槽，可实现隔离槽的精确控制，提高隔离槽处的封装效果，进而降低水氧侵蚀的风险，提高显示面板的显示效果。34.继续参考图2，可选的，有机材料层1061包括第一分部1062，第一分部1062位于隔离槽105内；沿第一方向，阻挡结构107位于第一分部1062靠近隔离槽105的侧壁的一侧。35.其中，显示元件层106包括有机材料层1061，有机材料层1061作为一种发光辅助层，可以辅助显示区104的显示元件发光显示，保证显示效果。由于隔离槽105的存在，使得有机材料层1061在制备过程中，有机材料层1061在隔离槽105处断开，有机材料层1061的第一分部1062会位于隔离槽105内，即隔离槽105的底部，同时由于在基底101上设置有阻挡结构107，阻挡结构107限制了隔离槽105在第一方向1062上的延伸宽度，同时由于阻挡结构107的存在，使得有机材料层1061的第一分部1062靠近隔离槽105的侧壁的一侧且与阻挡结构107接触。36.继续参考图2，可选的，显示面板100还包括隔离柱108，隔离柱108位于隔断区103，隔离槽105包括至少一个第一隔离槽1051和至少一个第二隔离槽1052；第一隔离槽1051位于隔离柱108靠近显示区104的一侧，第二隔离槽1052位于隔离柱108远离显示区104的一侧；阻挡结构107包括至少一个第一阻挡结构1071和至少一个第二阻挡结构1072；沿第一方向，第一阻挡结构1071与第一隔离槽1051的侧壁至少部分交叠，第二阻挡结构1072与第二隔离槽1052的侧壁至少部分交叠。37.其中，显示面板100还包括隔离柱108，隔离柱108位于隔断区103，隔离柱108的存在可以有效防止隔断区103的裂纹扩散至显示区104，隔断柱108由平坦化层、像素定义层和支撑柱等膜层堆叠形成。由于隔离柱108的存在，使得隔离槽105包括位于隔离柱108靠近显示区104的一侧的第一隔离槽1051以及位于隔离柱108远离显示区104的一侧的第二隔离槽1052；隔离槽105内设置有阻挡结构107，通过阻挡结构107限制隔离槽105的尺寸，沿第一方向，对应第一隔离槽1051设置有第一阻挡结构1071，第一阻挡结构1071与第一隔离槽1051的侧壁至少部分交叠；对应第二隔离槽1052设置有第二阻挡结构1072，第二阻挡结构1072与第二隔离槽1052的侧壁至少部分交叠。由于越靠近显示区104，水氧更能直接影响显示区104的显示效果，通过第一阻挡结构1071影响第一隔离槽1051的尺寸，避免封装过程中，无机封装层111在第一隔离槽1051处封装失效，影响显示效果，同时远离显示区104，通过设置第二隔离槽1052，切断水氧的入侵路径，将水氧阻断在隔断区103，使得水氧不易进入显示区104，避免显示区104收到水氧的影响。38.继续参考图2，可选的，基底101还包括第一柔性基底109以及位于第一柔性基底109靠近显示面板100的出光面一侧的缓冲层110，隔离槽105至少贯穿缓冲层110；显示面板100还包括无机封装层111，无机封装层111由显示区104延伸至隔断区103，沿第一方向，无机封装层111包括覆盖阻挡结构107的第一封装分部112，沿垂直于第一柔性基底109的方向(如图中所示的y方向)，无机封装层111覆盖第一隔离槽1051的底部；无机封装层111还包括位于缓冲层110远离第一柔性基底109一侧的第二封装分部113。39.其中，基底101包括第一柔性基底109，第一柔性基底109可以由sio2的透明玻璃材料形成，也是可以由透明的塑料材料形成。塑料材料可以是聚醚矾(pes)，聚丙烯酸酯(par)，聚醚酰亚胺(pei)、聚醚二甲酸乙二醇酯(pen)，聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)，聚苯硫醚(pps)，聚烯丙基化物、聚酰亚胺(pi)、聚碳酸酯(pc)、三乙酸纤维素((tac)或乙酸丙酸纤维素((cap)等材料。第一柔性基底109的厚度为5～10μm。位于第一柔性基底109靠近显示面板100的出光面一侧设置有缓冲层110，缓冲层110可以包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铝、氮化铝、氧化钦或氮化钦的无机材料，或者诸如聚酞亚胺、聚醋或丙烯酸的有机材料，并且可以形成为上述材料的多个层叠体。由于缓冲层110位于第一柔性基底109靠近显示面板100的出光面一侧，在隔离槽105的制备过程中，需要部分贯穿缓冲层110，进而刻蚀第一柔性基底109，配合阻挡结构107的设置，形成隔离槽105。显示面板100中的封装层通常为第一无机封装层+有机封装层+第二无机封装层的三层叠层结构，以保证良好封装效果，进而阻隔水氧侵蚀，本发明实施例中的无机封装层111为封装层结构中靠近第一柔性基底109一侧的第一无机封装层，无机封装层111由显示区104延伸至隔断区103，采用化学气相沉积(cvd)工艺形成封装层中的无机封装层111，在隔离槽105的侧壁形成附着紧密的膜层，进而提高封装效果。沿第一方向，无机封装层111包括覆盖阻挡结构107的第一封装分部112，即第一封装分部112与隔离槽105的侧壁接触；沿垂直于第一柔性基底109的方向，无机封装层111覆盖第一隔离槽1051的底部，无机封装层111与第二隔离槽1052的底部接触；无机封装层111还包括位于缓冲层110远离第一柔性基底109一侧的第二封装分部113，第二封装分部113与缓冲层110远离第一柔性基底109一侧接触，对缓冲层110进行封装保护。40.继续参考图2，可选的，沿第一方向，第一封装分部112的最小厚度为w1；缓冲层110超出阻挡结构107的最大宽度为w2；其中，w1≥w2。41.其中，沿垂直第一柔性基底109的方向，缓冲层110覆盖阻挡结构107且沿第一方向存在部分缓冲层110超出阻挡结构107，即阻挡结构107靠近隔离槽105一侧的表面与靠近对应阻挡结构107一侧的缓冲层110边缘之间的距离为缓冲层110超出阻挡结构107的宽度，对于同一隔离槽105中缓冲层110超出阻挡结构107的宽度可能存在差异，缓冲层110超出阻挡结构107的宽度越小，对应后续在缓冲层110超出阻挡结构107的位置更容易沉积一定厚度的无机封装层111，保证封装效果。沿第一方向，第一封装分部112的最小厚度大于或者等于缓冲层110超出阻挡结构107的最大宽度，使得无机封装层111中的第一封装分部112可以完全覆盖隔离槽105处的缓冲层110，保证第一封装分部112的整体厚度大于缓冲层110超出阻挡结构107的最大宽度，保证无机封装层111在隔离槽105处的连续封装效果，降低水氧侵蚀几率。42.继续参考图2，可选的，沿第一方向，缓冲层110超出阻挡结构107的最大宽度为w2；沿垂直于第一柔性基底109的方向，第二封装分部113的厚度为h1，其中，43.其中，合理控制缓冲层110超出阻挡结构107的最大宽度，避免缓冲层110超出阻挡结构107的宽度较大，使得无机封装层111在对应隔离槽105处的缓冲层110的边缘处的沉积厚度，避免无机封装层111断裂，将缓冲层110超出阻挡结构107的最大宽度参照第二封装分部113的厚度进行设定，第二封装分部113的厚度一般为0.6μm～2μm，缓冲层110超出遮挡结构的宽度小于或等于第二封装分部113的厚度的一半，缓冲层110超出阻挡结构107的最大宽度一般为0.2μm～1μm，进而保证无机封装层111在隔离槽105处的沉积厚度，降低水氧侵蚀的几率，保证显示区104的正常显示效果。44.继续参考图2，可选的，沿第一方向，缓冲层110超出第一阻挡结构1071的最大宽度为w3，缓冲层110超出第二阻挡结构1072的最大宽度为w4，其中，w3≤w4。45.其中，在第一方向上，隔离槽105包括隔离柱108靠近显示区104的第一隔离槽1051和隔离柱108远离显示区104的第二隔离槽1052，第一阻挡结构1071与第一隔离槽1051的侧壁至少部分交叠，第二阻挡结构1072与第二隔离槽1052的侧壁至少部分交叠，沿垂直第一柔性基底109的方向，缓冲层110覆盖阻挡结构107且沿第一方向存在部分缓冲层110超出阻挡结构107，缓冲层110超出阻挡结构107的宽度越小，对应后续在缓冲层110超出阻挡结构107的位置更容易沉积无机封装层111，保证封装效果。为保证经无机封装后的第一隔离槽1051和第二隔离槽1052具备相同或相近的封装效果，可以将缓冲层110超出第一阻挡结构1071的最大宽度等于缓冲层110超出第二阻挡结构1072的最大宽度。还可以将缓冲层110超出第一阻挡结构1071的最大宽度小于缓冲层110超出第二阻挡结构1072的最大宽度，以进而为保证第一隔离槽1051处的封装效果优于第二隔离槽1052处的封装效果，降低第一隔离槽1051处的水氧侵蚀几率，保证显示区104的显示效果。46.图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，如图3所示，可选的，隔离槽105包括多个第二隔离槽1052，沿第一方向，缓冲层110超出第二阻挡结构1072的最大宽度逐渐增大。47.其中，在隔断区103内设置有多个第二隔离槽1052，沿第一方向，缓冲层110超出第二阻挡结构1072的最大宽度逐渐增大，使得隔离槽105在靠近缓冲层110的位置封装厚度逐渐减少，使得越靠近显示区104，隔离槽105在靠近缓冲层110的位置封装效果越好，进而使得越靠近显示区104阻隔水氧的效果越好，降低水氧侵蚀进入显示区104的几率，保证显示区104的显示效果。48.继续参考图2，可选的，沿垂直于第一柔性基底109的方向，第二封装分部113的厚度为h1，沿第一方向，阻挡结构107的最小宽度为w5；其中，w5≥h1。49.其中，位于缓冲层110远离第一柔性基底109一侧的第二封装分部113，由于受无机封装层111的沉积工艺影响，第二封装分部113的厚度大于第一封装分部112的厚度，且在第一方向上延伸的第二封装分部113的厚度为无机封装层111的最大厚度，同时控制合理控制阻挡结构107的宽度，使得阻挡结构107的宽度大于第二封装分部113的厚度，或者阻挡结构107的宽度等于第二封装分部113的厚度，避免阻挡结构107的宽度过小，在对第一柔性基底109进行刻蚀的过程中造成阻挡结构107被破坏，影响隔离槽105的形成尺寸，进而保证无机封装层111在隔离槽105处的沉积效果，提高隔离槽105处对水氧的阻隔效果。50.图4为本发明实施例提供的一种隔离槽的结构示意图，如图4所示，可选的，沿第一方向，第一隔离槽1051的最大内径为w6，第二隔离槽1052的最大内径为w7，其中，w6≤w7。51.其中，图5为本发明实施例提供的一种隔离槽的结构示意图，如图5所示，当隔离槽105为圆环形时，隔离槽的105的内圆直径即为隔离槽105的最大内径。图6为本发明实施例提供的一种隔离槽的结构示意图，如图6所示，当隔离槽105为矩环形时，隔离槽105的内矩形的对角线的长度即为隔离槽105的最大内径。在显示区104指向开口区102的方向上，可以设置第一隔离槽1051的最大内径小于第二隔离槽1052的最大内径，使得第一隔离槽1051处的无机封装层111的沉积厚度大于第二隔离槽1052处的无机封装层111的沉积厚度，提高第一隔离槽1051处的阻隔水氧的效果，降低水氧侵蚀进入显示区104的几率，保证显示区104的正常显示。也可以设置第一隔离槽1051的最大内径等于第二隔离槽1052的最大内径，第一隔离槽1051和第二隔离槽1052的尺寸相同，有效简化刻蚀工艺难度，且使得第一隔离槽1051出的无机封装层111的沉积厚度等于第二隔离槽1052处的无机封装层111的沉积厚度，保证第一隔离槽1051和第二隔离槽1052处具备相同的阻隔水氧的效果，进而保证显示区104的正常显示。52.图7为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图，如图7所示，可选的，隔离槽105包括多个第二隔离槽1052，沿第一方向，第二隔离槽1052的最大内径逐渐增大。53.其中，在隔断区103内设置有多个第二隔离槽1052，沿第一方向，第二阻挡结构1072与第二隔离槽1052的侧壁至少部分交叠，第二隔离槽1052的最大内径w7逐渐增大，第二隔离槽1052处的封装厚度逐渐减少，使得越靠近显示区104处的封装效果越好，进而使得越靠近显示区104阻隔水氧的效果越好，降低水氧侵蚀进入显示区104的几率，保证显示区104的显示效果。54.图8为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图，图9为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图，如图8和图9所示，可选的，沿垂直于第一柔性基底109的方向，第一柔性基底109的厚度为h2，阻挡结构107的厚度为h3，其中，h3≤h2。55.其中，如图8所示，第一柔性基底109的厚度等于阻挡结构107的厚度，或者，如图9所示，第一柔性基底109的厚度小于阻挡结构107的厚度，根据阻挡结构107的设置，有效控制对第一柔性基底109在刻蚀宽度，同时配合刻蚀速率和刻蚀时间，影响隔离槽105的尺寸，进而提高隔离槽105处的封装效果，降低水氧的侵蚀几率。56.图10为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图，图11为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图，如图2、图10和图11所示，可选的，显示面板100还包括位于第一柔性基底109远离显示面板100的出光面一侧的第一隔离层114，阻挡结构107与第一隔离层114一体设置，阻挡结构107与第一隔离层114的材料相同。57.其中，为简化制备工艺难度，对于阻挡结构107和第一隔离层114为相同材料时，且阻挡结构107和第一隔离层114均为无机材料，可以对第一隔离层114进行复用，对第一隔离层114进行刻蚀形成阻挡结构107，使得阻挡结构107和第一隔离层114形成一体式结构，进而再沉积第一柔性基底109材料，对第一柔性基底109进行刻蚀形成隔离槽105，由于阻挡结构107的存在，配合刻蚀速度和刻蚀时间，使得隔离槽105的尺寸得到控制，进而保证后续隔离槽105处的封装效果。58.图12为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图，如图2、图8、图9、图10、图11和图12所示，可选的，阻挡结构107的厚度为h3，隔离槽105包括设置于第一柔性基底109中的第一子隔离槽115，第一子隔离槽115的深度为h4；其中，h4≤h3。59.其中，隔离槽105部分位于缓冲层110，部分位于第一柔性基底109，对第一柔性基底109进行刻蚀，刻蚀一定的深度形成第一子隔离槽115，如图12所示，第一子隔离槽115的深度h4等于阻挡结构107的厚度h3，在制备过程中当第一隔离层114与阻挡结构107为相同材料时，先可以沉积具有一定厚度的第一隔离层114材料，对第一隔离层114进行复用，进行曝光、显影和刻蚀的工艺形成阻挡结构107，然后在沉积第一柔性基底109材料，对第一柔性基底109刻蚀，暴露部分第一隔离层114，形成第一子隔离槽115。如图10所示，第一子隔离槽115的深度h4等于阻挡结构107的厚度h3，当第一隔离层114与阻挡结构107为不同材料时，形成第一隔离层114后，沉积阻挡结构107的材料，进行曝光、显影和刻蚀的工艺形成阻挡结构107，然后再沉积第一柔性基底109材料，然后对第一柔性基底109刻蚀，暴露部分第一隔离层114，形成第一子隔离槽115。如图11所示，第一子隔离槽115的深度h4等于阻挡结构107的厚度h3，形成第一隔离层114后，先沉积一层第一柔性基底109材料，再沉积阻挡结构107的材料，进行曝光、显影和刻蚀的工艺形成阻挡结构107，然后再沉积一层第一柔性基底109的材料，然后对第二层的第一柔性基底109刻蚀形成第一子隔离槽115。如图13所示，第一子隔离槽115的深度h4小于阻挡结构107的厚度h3，在制备过程中当第一隔离层114与阻挡结构107为相同材料时，先可以沉积具有一定厚度的第一隔离层114材料，对第一隔离层114进行复用，进行曝光、显影和刻蚀的工艺形成阻挡结构107，然后在沉积第一柔性基底109，然后对第一柔性基底109进行部分刻蚀形成第一子隔离槽115。如图14所示，第一子隔离槽115的深度h4小于阻挡结构107的厚度h3，当第一隔离层114与阻挡结构107为不同材料时，沉积阻挡结构107的材料，进行曝光、显影和刻蚀的工艺形成阻挡结构107，然后在沉积第一柔性基底109，然后对第一柔性基底109进行部分刻蚀形成第一子隔离槽115。可以通过合理设置阻挡结构107的厚度，保证对第一柔性基底109的刻蚀宽度，并根据实际设计需求控制对第一柔性基底109的刻蚀深度，进而保证隔离槽105的尺寸，进而保证隔离槽105的隔断效果。60.图13为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图，如图2和图13所示，可选的，基底101包括第一柔性基底109和位于第一柔性基底109远离显示面板100的出光面一侧的第一隔离层114，隔离槽105包括靠近阻挡结构107的侧面116，沿第一方向，侧面116与第一隔离层114的夹角为θ1，其中，θ1≤90°。61.其中，基底101包括第一柔性基底109和位于第一柔性基底109远离显示面板100的出光面一侧的第一隔离层114，第一隔离层114为无机材料，隔离槽105包括靠近阻挡结构107的侧面116，沿第一方向，侧面116与第一隔离层114之间存在夹角，夹角可以小于或等于90°，进而使得隔离槽105的形状呈倒梯形结构，同时使得位于显示元件层106中的有机材料层1061更容易在隔离槽105处断开，进而使得无机封装层111填充隔离槽105，且在有机材料层1061断开处沉积一定的厚度，保证隔离槽105处的封装效果，降低水氧侵蚀的几率。62.图14为本发明实施例提供的另一种隔离槽的结构示意图，如图2和图14所示，可选的，基底101包括第一柔性基底109和位于第一柔性基底109远离显示面板100的出光面一侧的第一隔离层114，隔离槽105包括靠近阻挡结构107的侧面116，沿第一方向，侧面116中任意一点的切线与第一隔离层114的夹角逐渐变大。63.其中，隔离槽105包括靠近阻挡结构107的侧面116，沿第一方向，侧面116中任意一点的切线与第一隔离层114的夹角逐渐变大，隔离槽105的侧面116呈弧面，使得位于显示元件层106中的有机材料层1061更容易在隔离槽105处断开，进而无机封装层111材料在有机材料层1061断开处沉积一定的厚度，保证隔离槽105处的封装效果，进而降低水氧侵蚀几率。64.可选的，阻挡结构107的材料包括sin、sio2、a-si、mo、ti、al和ag中的至少一种。65.其中，阻挡结构107可以为无机材料sin、sio2、a-si等材料制备或是由金属材料mo、ti、al和ag等材料制备。当阻挡结构107可以为无机材料时，此时阻挡结构107可以由基底101中的第一柔性衬底刻蚀得到，第一柔性衬底进行复用，此时第一柔性衬底与阻挡结构107为一体式结构，无需额外沉积组成阻挡结构107的材料，降低制作的繁琐程度和成本。66.基于同上的发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置。图15为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，如图15所示，显示装置200包括上述实施例中的显示面板100。该显示装置200包括本发明任一实施例所述的显示面板，因此，本发明实施例提供的显示装置200具备本发明实施例提供的显示面板相应的有益效果，这里不再赘述。示例性的，该显示装置200可以是手机、电脑、智能可穿戴设备(例如，智能手表)以及车载显示设备等电子设备，本发明实施例对此不作限定。本发明实施例提供的显示装置200还包括传感器201，传感器201对应开口区102设置。传感器201可包括摄像头、红外传感器等任意感光元件，通过将传感器201与开口区102对应设置，保证传感器201可以正常接收光线，正常工作。67.注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互组合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。









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